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Estudo de tratamento fotoquímico (UV/H2N2) para reuso de águas de processos contendo contaminantes orgânicos

Daniella Cristina Barbosa de Lira Davi Teves de Aguiar; Isabela Bellot de Souza Will; Antonio Carlos S. C Teixeira 1966-; Roberto Guardani 1953-; Cláudio Augusto Oller do Nascimento 1952-; Congresso Brasileiro de Engenharia Química (16. 2006 Santos); Congresso Brasileiro de Termodinâmica Aplicada (3. 2006 Santos)

XVI COBEQ; III CBTERMO:engenharia química & inovação : anais Lorena : EEL-USP/UNICAMP/ABEQ, 2006 Santos : COBEQ, 2006

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Título:
Estudo de tratamento fotoquímico (UV/H2N2) para reuso de águas de processos contendo contaminantes orgânicos
Autor: Daniella Cristina Barbosa de Lira
Davi Teves de Aguiar; Isabela Bellot de Souza Will; Antonio Carlos S. C Teixeira 1966-; Roberto Guardani 1953-; Cláudio Augusto Oller do Nascimento 1952-; Congresso Brasileiro de Engenharia Química (16. 2006 Santos); Congresso Brasileiro de Termodinâmica Aplicada (3. 2006 Santos)
Assuntos: FOTOQUÍMICA (TRATAMENTO); OXIDAÇÃO (PROCESSOS QUÍMICOS); REÚSO DA ÁGUA; TRATAMENTO DE ÁGUAS RESIDUÁRIAS
É parte de: XVI COBEQ; III CBTERMO:engenharia química & inovação : anais Lorena : EEL-USP/UNICAMP/ABEQ, 2006 Santos : COBEQ, 2006
Notas: Em CD-ROM
Editor: Santos COBEQ
Data de criação/publicação: 2006
Formato: trab. 1198-PS3-165.
Idioma: Português

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