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Idioma:

Atomic layer deposition of tungsten nitride films using sequential surface reactions

KLAUS, J. W ; FERRO, S. J ; GEORGE, S. M

Journal of the Electrochemical Society, 2000-03, Vol.147 (3), p.1175-1181 [Periódico revisado por pares]

Pennington, NJ: Electrochemical Society

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