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Nachweis von HCSiF und HCSiCl als die ersten Moleküle mit formalen C≡Si‐Bindungen

Karni, Miriam ; Apeloig, Yitzhak ; Schröder, Detlef ; Zummack, Waltraud ; Rabezzana, Roberto ; Schwarz, Helmut

Angewandte Chemie, 1999-02, Vol.111 (3), p.343-347 [Periódico revisado por pares]

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Título:
Nachweis von HCSiF und HCSiCl als die ersten Moleküle mit formalen C≡Si‐Bindungen
Autor: Karni, Miriam ; Apeloig, Yitzhak ; Schröder, Detlef ; Zummack, Waltraud ; Rabezzana, Roberto ; Schwarz, Helmut
Assuntos: Ab‐initio‐Rechnungen ; Massenspektrometrie ; Silicium ; Siline
É parte de: Angewandte Chemie, 1999-02, Vol.111 (3), p.343-347
Descrição: Die Neutralisierung von [C,H,Si,X] .+‐Radikalkationen (X=F, Cl) liefert den ersten experimentellen Beleg für die Existenz der neutralen Siline HC≡SiF und HC≡SiCl, die nach Ab‐initio‐MO‐Rechnungen nichtlineare Strukturen aufweisen (siehe Bild).
Editor: Weinheim: WILEY‐VCH Verlag GmbH
Idioma: Inglês

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