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Avaliação das características físico-químicas e elétricas de filmes de SiO2 depositados por PECVD a partir da reação entre O2 e TEOS
Avaliação das características físico-químicas e elétricas de filmes de SiO2 depositados por PECVD a partir da reação entre O2 e TEOS
Material Type:
Relatório Técnico 		Adicionar ao Meu Espaço

Avaliação das características físico-químicas e elétricas de filmes de SiO2 depositados por PECVD a partir da reação entre O2 e TEOS

A R Cardoso Claus Martin Hasenack

São Paulo EPUSP 1997

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Deste Autor:

  1. Hasenack, C
  2. Cardoso, A

Neste Assunto:

  1. Circuitos Integrados

  • Realização: ABCD-USP USP   Logos de Redes Sociais: Freepik

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