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4H-SiC MESFETs behavior after high dose irradiation
4H-SiC MESFETs behavior after high dose irradiation
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4H-SiC MESFETs behavior after high dose irradiation

Brisset, C. ; Noblanc, O. ; Picard, C. ; Joffre, F. ; Brylinski, C.

IEEE transactions on nuclear science, 2000-06, Vol.47 (3), p.598-603 [Periódico revisado por pares]

New York: IEEE

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In vivo evaluation of a new system for 3D computerized angiography
In vivo evaluation of a new system for 3D computerized angiography
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In vivo evaluation of a new system for 3D computerized angiography

Saint-Felix, D ; Trousset, Y ; Picard, C ; Ponchut, C ; Romeas, R ; Rougee, A

Physics in medicine & biology, 1994-03, Vol.39 (3), p.583-595 [Periódico revisado por pares]

Bristol: IOP Publishing

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Reduced two-phase model for analysis of the anode of a DMFC
Reduced two-phase model for analysis of the anode of a DMFC
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Reduced two-phase model for analysis of the anode of a DMFC

BIRGERSSON, Erik ; NORDLUND, Joakim ; VYNNYCKY, Michael ; PICARD, Cyril ; LINDBERGH, Göran

Journal of the Electrochemical Society, 2004, Vol.151 (12), p.A2157-A2172 [Periódico revisado por pares]

Pennington, NJ: Electrochemical Society

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Bubble-free Ozone Contacting with Ceramic Membranes for Wet Oxidative Treatment
Bubble-free Ozone Contacting with Ceramic Membranes for Wet Oxidative Treatment
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Bubble-free Ozone Contacting with Ceramic Membranes for Wet Oxidative Treatment

Janknecht, P. ; Wilderer, P. A. ; Picard, C. ; Larbot, A. ; Sarrazin, J.

Chemical engineering & technology, 2000-08, Vol.23 (8), p.674-677 [Periódico revisado por pares]

Weinheim: WILEY-VCH Verlag

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Use of commercial VDMOSFETs in electronic systems subjected to radiation
Use of commercial VDMOSFETs in electronic systems subjected to radiation
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Use of commercial VDMOSFETs in electronic systems subjected to radiation

Picard, C. ; Brisset, C. ; Quittard, O. ; Marceau, M. ; Hoffmann, A. ; Joffre, F. ; Charles, J.-P.

IEEE transactions on nuclear science, 2000-06, Vol.47 (3), p.627-633 [Periódico revisado por pares]

New York: IEEE

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Detection of NH3 and H2S with thick film semiconductor sensors based on Cd2−xGeO4−x−3yN2y oxynitrides
Detection of NH3 and H2S with thick film semiconductor sensors based on Cd2−xGeO4−x−3yN2y oxynitrides
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Detection of NH3 and H2S with thick film semiconductor sensors based on Cd2−xGeO4−x−3yN2y oxynitrides

dit Picard, C.Louis Eugène ; Bernicot, Y. ; Merdrignac, O. ; Guyader, J.

Sensors and actuators. B, Chemical, 1997-07, Vol.42 (1), p.47-51 [Periódico revisado por pares]

Elsevier

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In situ diffuse reflectance infrared spectroscopy (DRIFTS) study of the reversibility of CdGeON sensors towards oxygen
In situ diffuse reflectance infrared spectroscopy (DRIFTS) study of the reversibility of CdGeON sensors towards oxygen
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In situ diffuse reflectance infrared spectroscopy (DRIFTS) study of the reversibility of CdGeON sensors towards oxygen

Benítez, J.J. ; Centeno, M.A. ; dit Picard, C.Louis ; Merdrignac, O. ; Laurent, Y. ; Odriozola, J.A.

Sensors and actuators. B, Chemical, 1996, Vol.31 (3), p.197-202 [Periódico revisado por pares]

Lausanne: Elsevier B.V

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Investigations on Ozone Contacting by Ceramic Membranes
Investigations on Ozone Contacting by Ceramic Membranes
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Investigations on Ozone Contacting by Ceramic Membranes

Janknecht, P. ; Wilderer, P. A. ; Picard, C. ; Larbot, A. ; Sarrazin, J.

Ozone: science & engineering, 2000-08, Vol.22 (4), p.379-392 [Periódico revisado por pares]

Philadelphia, PA: Taylor & Francis Group

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Influence of Oxygen in the Sensing Properties of Cadmium and Germanium Oxynitride
Influence of Oxygen in the Sensing Properties of Cadmium and Germanium Oxynitride
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Influence of Oxygen in the Sensing Properties of Cadmium and Germanium Oxynitride

Benítez, J. J ; Centeno, M. A ; Louis dit Picard, C ; Guyader, J ; Laurent, Y ; Odriozola, J. A

Langmuir, 1996-03, Vol.12 (6), p.1495-1499 [Periódico revisado por pares]

Washington, DC: American Chemical Society

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Comparison of amorphous and crystalline (Ti,Nb)O2 thin films: Crystallization microstructure and electrical properties
Comparison of amorphous and crystalline (Ti,Nb)O2 thin films: Crystallization microstructure and electrical properties
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Comparison of amorphous and crystalline (Ti,Nb)O2 thin films: Crystallization microstructure and electrical properties

Picard-Lagnel, F. ; Poumellec, B. ; Picard, C.

Thin solid films, 1989-07, Vol.174, p.209-215 [Periódico revisado por pares]

Elsevier B.V

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