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1
Octahedral conversion of a-SiO2 host matrix by pulsed ion implantation
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Octahedral conversion of a-SiO2 host matrix by pulsed ion implantation

Zatsepin, D. A. ; Zatsepin, A. F. ; Boukhvalov, D. W. ; Kurmaev, E. Z. ; Gavrilov, N. V. ; Skorikov, N. A. ; von Czarnowski, A. ; Fitting, H.-J.

physica status solidi (b), 2015-10, Vol.252 (10), p.2185-2190 [Periódico revisado por pares]

Blackwell Publishing Ltd

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2
XPS analysis and valence band structure of a low-dimensional SiO2/Si system after Si+ ion implantation
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XPS analysis and valence band structure of a low-dimensional SiO2/Si system after Si+ ion implantation

Zatsepin, D. A. ; Mack, P. ; Wright, A. E. ; Schmidt, B. ; Fitting, H.-J.

Physica status solidi. A, Applications and materials science, 2011-07, Vol.208 (7), p.1658-1661 [Periódico revisado por pares]

Berlin: WILEY-VCH Verlag

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3
Electron microscopic imaging of an ion beam mixed SiO2/Si interface correlated with photo- and cathodoluminescence
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Electron microscopic imaging of an ion beam mixed SiO2/Si interface correlated with photo- and cathodoluminescence

Fitting, H.-J. ; Fitting Kourkoutis, L. ; Schmidt, B. ; Liedke, B. ; Ivanova, E. V. ; Zamoryanskaya, M. V. ; Pustovarov, V. A. ; Zatsepin, A. F.

Physica status solidi. A, Applications and materials science, 2012-06, Vol.209 (6), p.1101-1108 [Periódico revisado por pares]

Berlin: WILEY-VCH Verlag

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4
Silicon nanocluster aggregation in SiO2:Si layers
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Silicon nanocluster aggregation in SiO2:Si layers

Fitting, H.-J. ; Kourkoutis, L. Fitting ; Salh, Roushdey ; Zamoryanskaya, M. V. ; Schmidt, B.

Physica status solidi. A, Applications and materials science, 2010-01, Vol.207 (1), p.117-123 [Periódico revisado por pares]

Berlin: WILEY-VCH Verlag

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5
Sniff nasal pressure: A sensitive respiratory test to assess progression of amyotrophic lateral sclerosis
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Sniff nasal pressure: A sensitive respiratory test to assess progression of amyotrophic lateral sclerosis

Fitting, Jean-William ; Paillex, Roland ; Hirt, Lorenz ; Aebischer, Patrick ; Schluep, Myriam

Annals of neurology, 1999-12, Vol.46 (6), p.887-893 [Periódico revisado por pares]

New York: John Wiley & Sons, Inc

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6
Cathodoluminescence of SiO x under‐stoichiometric silica layers
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Cathodoluminescence of SiO x under‐stoichiometric silica layers

Salh, Roushdey ; von Czarnowski, A. ; Zamoryanskaya, M. V. ; Kolesnikova, E. V. ; Fitting, H.‐J.

Physica status solidi. A, Applications and materials science, 2006-06, Vol.203 (8), p.2049-2057 [Periódico revisado por pares]

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7
Cathodoluminescence of SiOx under-stoichiometric silica layers
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Cathodoluminescence of SiOx under-stoichiometric silica layers

Salh, Roushdey ; von Czarnowski, A. ; Zamoryanskaya, M. V. ; Kolesnikova, E. V. ; Fitting, H.-J.

Physica status solidi. A, Applications and materials science, 2006-06, Vol.203 (8), p.2049-2057 [Periódico revisado por pares]

Berlin: WILEY-VCH Verlag

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8
Soft X-ray emission spectroscopy of low-dimensional SiO2/Si interfaces after Si+ ion implantation and ion beam mixing
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Soft X-ray emission spectroscopy of low-dimensional SiO2/Si interfaces after Si+ ion implantation and ion beam mixing

Zatsepin, D. A. ; Kaschieva, S. ; Zier, M. ; Schmidt, B. ; Fitting, H.-J.

Physica status solidi. A, Applications and materials science, 2010-03, Vol.207 (3), p.743-747 [Periódico revisado por pares]

Berlin: WILEY-VCH Verlag

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9
Luminescence of isoelectronically ion-implanted SiO2 layers
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Luminescence of isoelectronically ion-implanted SiO2 layers

Salh, Roushdey ; Fitting Kourkoutis, L. ; Schmidt, B. ; Fitting, H.-J.

Physica status solidi. A, Applications and materials science, 2007-09, Vol.204 (9), p.3132-3144 [Periódico revisado por pares]

Berlin: WILEY-VCH Verlag

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10
Luminescence of isoelectronically ion‐implanted SiO 2 layers
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Luminescence of isoelectronically ion‐implanted SiO 2 layers

Salh, Roushdey ; Fitting Kourkoutis, L. ; Schmidt, B. ; Fitting, H.‐J.

Physica status solidi. A, Applications and materials science, 2007-09, Vol.204 (9), p.3132-3144 [Periódico revisado por pares]

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