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Active materials by four-dimension printing
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Ge, Qi ; Qi, H. Jerry ; Dunn, Martin L.

Applied physics letters, 2013-09, Vol.103 (13), p.131901 [Periódico revisado por pares]

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12
Substrate-induced strain and charge doping in CVD-grown monolayer MoS2
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Substrate-induced strain and charge doping in CVD-grown monolayer MoS2

Chae, Woo Hyun ; Cain, Jeffrey D. ; Hanson, Eve D. ; Murthy, Akshay A. ; Dravid, Vinayak P.

Applied physics letters, 2017-10, Vol.111 (14) [Periódico revisado por pares]

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13
Exciton diffusion in WSe2 monolayers embedded in a van der Waals heterostructure
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Exciton diffusion in WSe2 monolayers embedded in a van der Waals heterostructure

Cadiz, F. ; Robert, C. ; Courtade, E. ; Manca, M. ; Martinelli, L. ; Taniguchi, T. ; Watanabe, K. ; Amand, T. ; Rowe, A. C. H. ; Paget, D. ; Urbaszek, B. ; Marie, X.

Applied physics letters, 2018-04, Vol.112 (15) [Periódico revisado por pares]

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14
Depletion-mode Ga2O3 metal-oxide-semiconductor field-effect transistors on β-Ga2O3 (010) substrates and temperature dependence of their device characteristics
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Depletion-mode Ga2O3 metal-oxide-semiconductor field-effect transistors on β-Ga2O3 (010) substrates and temperature dependence of their device characteristics

Higashiwaki, Masataka ; Sasaki, Kohei ; Kamimura, Takafumi ; Hoi Wong, Man ; Krishnamurthy, Daivasigamani ; Kuramata, Akito ; Masui, Takekazu ; Yamakoshi, Shigenobu

Applied physics letters, 2013-09, Vol.103 (12) [Periódico revisado por pares]

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15
Gallium oxide (Ga2O3) metal-semiconductor field-effect transistors on single-crystal β-Ga2O3 (010) substrates
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Artigo
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Gallium oxide (Ga2O3) metal-semiconductor field-effect transistors on single-crystal β-Ga2O3 (010) substrates

Higashiwaki, Masataka ; Sasaki, Kohei ; Kuramata, Akito ; Masui, Takekazu ; Yamakoshi, Shigenobu

Applied physics letters, 2012-01, Vol.100 (1) [Periódico revisado por pares]

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16
Ferroelectricity in hafnium oxide thin films
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Ferroelectricity in hafnium oxide thin films

Böscke, T. S. ; Müller, J. ; Bräuhaus, D. ; Schröder, U. ; Böttger, U.

Applied physics letters, 2011-09, Vol.99 (10), p.102903-102903-3 [Periódico revisado por pares]

American Institute of Physics

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17
An optically pumped 2.5 μm GeSn laser on Si operating at 110 K
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An optically pumped 2.5 μm GeSn laser on Si operating at 110 K

Al-Kabi, Sattar ; Ghetmiri, Seyed Amir ; Margetis, Joe ; Pham, Thach ; Zhou, Yiyin ; Dou, Wei ; Collier, Bria ; Quinde, Randy ; Du, Wei ; Mosleh, Aboozar ; Liu, Jifeng ; Sun, Greg ; Soref, Richard A. ; Tolle, John ; Li, Baohua ; Mortazavi, Mansour ; Naseem, Hameed A. ; Yu, Shui-Qing

Applied physics letters, 2016-10, Vol.109 (17) [Periódico revisado por pares]

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18
Evolution of phases and ferroelectric properties of thin Hf0.5Zr0.5O2 films according to the thickness and annealing temperature
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Evolution of phases and ferroelectric properties of thin Hf0.5Zr0.5O2 films according to the thickness and annealing temperature

Hyuk Park, Min ; Joon Kim, Han ; Jin Kim, Yu ; Lee, Woongkyu ; Moon, Taehwan ; Seong Hwang, Cheol

Applied physics letters, 2013-06, Vol.102 (24) [Periódico revisado por pares]

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19
Correlation between dislocations and leakage current of p-n diodes on a free-standing GaN substrate
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Correlation between dislocations and leakage current of p-n diodes on a free-standing GaN substrate

Usami, Shigeyoshi ; Ando, Yuto ; Tanaka, Atsushi ; Nagamatsu, Kentaro ; Deki, Manato ; Kushimoto, Maki ; Nitta, Shugo ; Honda, Yoshio ; Amano, Hiroshi ; Sugawara, Yoshihiro ; Yao, Yong-Zhao ; Ishikawa, Yukari

Applied physics letters, 2018-04, Vol.112 (18) [Periódico revisado por pares]

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20
Ultra-broadband microwave metamaterial absorber
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Ultra-broadband microwave metamaterial absorber

Ding, Fei ; Cui, Yanxia ; Ge, Xiaochen ; Jin, Yi ; He, Sailing

Applied physics letters, 2012-03, Vol.100 (10), p.103506-103506-4 [Periódico revisado por pares]

American Institute of Physics

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