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Influence of the annealing temperature of (n) poly-Si/SiOx passivating contacts on their firing stability
Influence of the annealing temperature of (n) poly-Si/SiOx passivating contacts on their firing stability
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Influence of the annealing temperature of (n) poly-Si/SiOx passivating contacts on their firing stability

Linke, Jonathan ; Hoß, Jan ; Buchholz, Florian ; Lossen, Jan ; Kopecek, Radovan

Solar energy materials and solar cells, 2023-08, Vol.258, p.112415, Article 112415 [Periódico revisado por pares]

Elsevier B.V

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2
The role of masking layers during metallization of poly-Si/SiOx contacts
The role of masking layers during metallization of poly-Si/SiOx contacts
Material Type:
Ata de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

The role of masking layers during metallization of poly-Si/SiOx contacts

Linke, Jonathan ; Buchholz, Florian ; Peter, Christoph ; Hoß, Jan ; Lossen, Jan ; Kopecek, Radovan Verlinden, Pierre ; Ballif, Christophe ; Weeber, Arthur ; Glunz, Stefan ; Hahn, Giso ; Dubois, Sébastien ; Peibst, Robby ; Poortmans, Jef

AIP Conference Proceedings, 2023, Vol.2826 (1) [Periódico revisado por pares]

Melville: American Institute of Physics

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3
Three-Step Process for Efficient Solar Cells with Boron-Doped Passivated Contacts
Three-Step Process for Efficient Solar Cells with Boron-Doped Passivated Contacts
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Three-Step Process for Efficient Solar Cells with Boron-Doped Passivated Contacts

Sharbaf Kalaghichi, Saman ; Hoß, Jan ; Linke, Jonathan ; Lange, Stefan ; Werner, Jürgen H

Energies (Basel), 2024-03, Vol.17 (6), p.1319 [Periódico revisado por pares]

Basel: MDPI AG

Texto completo disponível

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4
Influence of Polysilicon Thickness on Properties of Screen‐Printed Silver Paste Metallized Silicon Oxide/Polysilicon Passivated Contacts
Influence of Polysilicon Thickness on Properties of Screen‐Printed Silver Paste Metallized Silicon Oxide/Polysilicon Passivated Contacts
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Influence of Polysilicon Thickness on Properties of Screen‐Printed Silver Paste Metallized Silicon Oxide/Polysilicon Passivated Contacts

Chaudhary, Aditya ; Hoß, Jan ; Lossen, Jan ; Huster, Frank ; Kopecek, Radovan ; van Swaaij, René ; Zeman, Miro

Physica status solidi. A, Applications and materials science, 2021-09, Vol.218 (18), p.n/a [Periódico revisado por pares]

Weinheim: Wiley Subscription Services, Inc

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Citações Citado por
5
Influence of Silicon Substrate Surface Finish on the Screen‐Printed Silver Metallization of Polysilicon‐Based Passivating Contacts
Influence of Silicon Substrate Surface Finish on the Screen‐Printed Silver Metallization of Polysilicon‐Based Passivating Contacts
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Influence of Silicon Substrate Surface Finish on the Screen‐Printed Silver Metallization of Polysilicon‐Based Passivating Contacts

Chaudhary, Aditya ; Hoß, Jan ; Lossen, Jan ; Huster, Frank ; Kopecek, Radovan ; van Swaaij, René ; Zeman, Miro

Physica status solidi. A, Applications and materials science, 2022-05, Vol.219 (9), p.n/a [Periódico revisado por pares]

Weinheim: Wiley Subscription Services, Inc

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6
Screen printed Ag contacts for n-type polysilicon passivated contacts
Screen printed Ag contacts for n-type polysilicon passivated contacts
Material Type:
Ata de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Screen printed Ag contacts for n-type polysilicon passivated contacts

Chaudhary, Aditya ; Hoß, Jan ; Lossen, Jan ; van Swaaij, René ; Zeman, Miro Poortmans, Jef ; Ballif, Christophe ; Glunz, Stefan ; Weeber, Arthur ; Hahn, Giso ; Brendel, Rolf ; Dubois, Sébastien ; Verlinden, Pierre

AIP Conference Proceedings, 2019, Vol.2147 (1) [Periódico revisado por pares]

Melville: American Institute of Physics

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7
In Situ-Doped Silicon Thin Films for Passivating Contacts by Hot-Wire Chemical Vapor Deposition with a High Deposition Rate of 42 nm/min
In Situ-Doped Silicon Thin Films for Passivating Contacts by Hot-Wire Chemical Vapor Deposition with a High Deposition Rate of 42 nm/min
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

In Situ-Doped Silicon Thin Films for Passivating Contacts by Hot-Wire Chemical Vapor Deposition with a High Deposition Rate of 42 nm/min

Li, Shenghao ; Pomaska, Manuel ; Hoß, Jan ; Lossen, Jan ; Ziegner, Mirko ; Hong, Ruijiang ; Finger, Friedhelm ; Rau, Uwe ; Ding, Kaining

ACS applied materials & interfaces, 2019-08, Vol.11 (33), p.30493-30499 [Periódico revisado por pares]

United States: American Chemical Society

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8
Advancement in screen printed fire through silver paste metallisation of polysilicon based passivating contacts
Advancement in screen printed fire through silver paste metallisation of polysilicon based passivating contacts
Material Type:
Ata de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Advancement in screen printed fire through silver paste metallisation of polysilicon based passivating contacts

Chaudhary, Aditya ; Hoß, Jan ; Lossen, Jan ; van Swaaij, René ; Zeman, Miro Tous, Loic ; Lossen, Jan ; Schubert, Gunnar ; Beaucarne, Guy

AIP Conference Proceedings, 2021, Vol.2367 (1) [Periódico revisado por pares]

Melville: American Institute of Physics

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9
High‐quality amorphous silicon thin films for tunnel oxide passivating contacts deposited at over 150 nm/min
High‐quality amorphous silicon thin films for tunnel oxide passivating contacts deposited at over 150 nm/min
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

High‐quality amorphous silicon thin films for tunnel oxide passivating contacts deposited at over 150 nm/min

Li, Shenghao ; Pomaska, Manuel ; Hoß, Jan ; Lossen, Jan ; Qiu, Kaifu ; Hong, Ruijiang ; Finger, Friedhelm ; Rau, Uwe ; Ding, Kaining

Progress in photovoltaics, 2021-01, Vol.29 (1), p.16-23 [Periódico revisado por pares]

Bognor Regis: Wiley Subscription Services, Inc

Texto completo disponível

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10
Sputtering of silicon thin films for passivated contacts
Sputtering of silicon thin films for passivated contacts
Material Type:
Ata de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Sputtering of silicon thin films for passivated contacts

Hoß, Jan ; Baumann, Jens ; Berendt, Markus ; Graupner, Uwe ; Köhler, René ; Lossen, Jan ; Thumsch, Martin ; Schneiderlöchner, Eric Poortmans, Jef ; Ballif, Christophe ; Glunz, Stefan ; Weeber, Arthur ; Hahn, Giso ; Brendel, Rolf ; Dubois, Sébastien ; Verlinden, Pierre

AIP Conference Proceedings, 2019, Vol.2147 (1) [Periódico revisado por pares]

Melville: American Institute of Physics

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