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Refinado por: autor: Almeida, G remover autor: Semana Integrada do Instituto de Física de São Carlos - SIFSC remover Costa, L remover
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Structural and surface morphology modification in hydrogenated amorphous silicon thin films induced by femtosecond pulses
Structural and surface morphology modification in hydrogenated amorphous silicon thin films induced by femtosecond pulses
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Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Structural and surface morphology modification in hydrogenated amorphous silicon thin films induced by femtosecond pulses

G. F. B. Almeida Marcos Roberto Cardoso; P. H. B Aoki; J. J. D Lima Junior; Luciano da Fontoura Costa; C. A Rodrigues; C. J. L Constantino; Cleber Renato Mendonça; Semana Integrada do Instituto de Física de São Carlos - SIFSC (4. 2014 São Carlos)

Livro de Resumos São Carlos : Universidade de São Paulo - USP, Instituto de Física de São Carlos - IFSC, 2014

São Carlos Universidade de São Paulo - USP, Instituto de Física de São Carlos - IFSC 2014

Localização: IFSC - Inst. Física de São Carlos    (PROD022682 )(Acessar)

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Hydrogenated amorphous silicon surface micromachined by femtosecond laser
Hydrogenated amorphous silicon surface micromachined by femtosecond laser
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Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Hydrogenated amorphous silicon surface micromachined by femtosecond laser

G. F. B. Almeida Marcos Roberto Cardoso; P. H. B Aoki; C. J. L Constantino; J. D Lima Júnior; C. A Rodrigues; Luciano da Fontoura Costa; Cleber Renato Mendonça; Semana Integrada do Instituto de Física de São Carlos - SIFSC (3. 2013 São Carlos)

Livro de Resumos São Carlos : Universidade de São Paulo - USP, Instituto de Física de São Carlos - IFSC, 2013

São Carlos Universidade de São Paulo - USP, Instituto de Física de São Carlos - IFSC 2013

Localização: IFSC - Inst. Física de São Carlos    (PROD021845 )(Acessar)

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Deste Autor:

  1. Semana Integrada do Instituto de Física de São Carlos - SIFSC
  2. Cardoso, M
  3. Constantino, C
  4. Aoki, P
  5. Rodrigues, C

Neste Assunto:

  1. Filmes Finos
  2. Laser
  3. Cristalização
  4. Microscopia
  5. Silício

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