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High quality, large surface area, homoepitaxial MPACVD diamond growth
High quality, large surface area, homoepitaxial MPACVD diamond growth
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High quality, large surface area, homoepitaxial MPACVD diamond growth

Silva, F. ; Achard, J. ; Brinza, O. ; Bonnin, X. ; Hassouni, K. ; Anthonis, A. ; De Corte, K. ; Barjon, J.

Diamond and related materials, 2009-05, Vol.18 (5), p.683-697 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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2
Coupled effect of nitrogen addition and surface temperature on the morphology and the kinetics of thick CVD diamond single crystals
Coupled effect of nitrogen addition and surface temperature on the morphology and the kinetics of thick CVD diamond single crystals
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Coupled effect of nitrogen addition and surface temperature on the morphology and the kinetics of thick CVD diamond single crystals

Achard, J. ; Silva, F. ; Brinza, O. ; Tallaire, A. ; Gicquel, A.

Diamond and related materials, 2007-04, Vol.16 (4), p.685-689 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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3
Thick boron doped diamond single crystals for high power electronics
Thick boron doped diamond single crystals for high power electronics
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Thick boron doped diamond single crystals for high power electronics

Achard, J. ; Silva, F. ; Issaoui, R. ; Brinza, O. ; Tallaire, A. ; Schneider, H. ; Isoird, K. ; Ding, H. ; Koné, S. ; Pinault, M.A. ; Jomard, F. ; Gicquel, A.

Diamond and related materials, 2011-02, Vol.20 (2), p.145-152 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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4
Low temperature and large area deposition of nanocrystalline diamond films with distributed antenna array microwave-plasma reactor
Low temperature and large area deposition of nanocrystalline diamond films with distributed antenna array microwave-plasma reactor
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Low temperature and large area deposition of nanocrystalline diamond films with distributed antenna array microwave-plasma reactor

Mehedi, H.-A. ; Achard, J. ; Rats, D. ; Brinza, O. ; Tallaire, A. ; Mille, V. ; Silva, F. ; Provent, Ch ; Gicquel, A.

Diamond and related materials, 2014-08, Vol.47, p.58-65 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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5
Influence of substrate temperature on formation of ultrananocrystalline diamond films deposited by HFCVD argon-rich gas mixture
Influence of substrate temperature on formation of ultrananocrystalline diamond films deposited by HFCVD argon-rich gas mixture
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Influence of substrate temperature on formation of ultrananocrystalline diamond films deposited by HFCVD argon-rich gas mixture

Barbosa, D.C. ; Almeida, F.A. ; Silva, R.F. ; Ferreira, N.G. ; Trava-Airoldi, V.J. ; Corat, E.J.

Diamond and related materials, 2009-10, Vol.18 (10), p.1283-1288 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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6
CVD micro/nanocrystalline diamond (MCD/NCD) bilayer coated odontological drill bits
CVD micro/nanocrystalline diamond (MCD/NCD) bilayer coated odontological drill bits
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CVD micro/nanocrystalline diamond (MCD/NCD) bilayer coated odontological drill bits

Salgueiredo, E. ; Almeida, F.A. ; Amaral, M. ; Fernandes, A.J.S. ; Costa, F.M. ; Silva, R.F. ; Oliveira, F.J.

Diamond and related materials, 2009-02, Vol.18 (2), p.264-270 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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7
Dislocations and impurities introduced from etch-pits at the epitaxial growth resumption of diamond
Dislocations and impurities introduced from etch-pits at the epitaxial growth resumption of diamond
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Dislocations and impurities introduced from etch-pits at the epitaxial growth resumption of diamond

Tallaire, A. ; Barjon, J. ; Brinza, O. ; Achard, J. ; Silva, F. ; Mille, V. ; Issaoui, R. ; Tardieu, A. ; Gicquel, A.

Diamond and related materials, 2011-07, Vol.20 (7), p.875-881 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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8
Dependence of CVD diamond growth rate on substrate orientation as a function of process parameters in the high microwave power density regime
Dependence of CVD diamond growth rate on substrate orientation as a function of process parameters in the high microwave power density regime
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Dependence of CVD diamond growth rate on substrate orientation as a function of process parameters in the high microwave power density regime

Brinza, O. ; Achard, J. ; Silva, F. ; Bonnin, X. ; Barroy, P. ; Corte, K. De ; Gicquel, A.

Physica status solidi. A, Applications and materials science, 2008-09, Vol.205 (9), p.2114-2120 [Periódico revisado por pares]

Berlin: WILEY-VCH Verlag

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9
Friction and wear performance of HFCVD nanocrystalline diamond coated silicon nitride ceramics
Friction and wear performance of HFCVD nanocrystalline diamond coated silicon nitride ceramics
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Friction and wear performance of HFCVD nanocrystalline diamond coated silicon nitride ceramics

Abreu, C.S. ; Amaral, M. ; Fernandes, A.J.S. ; Oliveira, F.J. ; Silva, R.F. ; Gomes, J.R.

Diamond and related materials, 2006-04, Vol.15 (4), p.739-744 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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10
Homoepitaxial deposition of high-quality thick diamond films: effect of growth parameters
Homoepitaxial deposition of high-quality thick diamond films: effect of growth parameters
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Homoepitaxial deposition of high-quality thick diamond films: effect of growth parameters

Tallaire, A. ; Achard, J. ; Silva, F. ; Sussmann, R.S. ; Gicquel, A.

Diamond and related materials, 2005-03, Vol.14 (3), p.249-254 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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