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1
Mitigating MPI Message Matching Misery
Mitigating MPI Message Matching Misery
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Ata de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Mitigating MPI Message Matching Misery

Flajslik, Mario ; Dinan, James ; Underwood, Keith D.

High Performance Computing, p.281-299 [Periódico revisado por pares]

Cham: Springer International Publishing

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2
Accelerated Work Stealing
Accelerated Work Stealing
Material Type:
Ata de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Accelerated Work Stealing

Larkins, D. Brian ; Snyder, John ; Dinan, James

Proceedings of the 48th International Conference on Parallel Processing, 2019, p.1-10

New York, NY, USA: ACM

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3
Efficient Runtime Support for a Partitioned Global Logical Address Space
Efficient Runtime Support for a Partitioned Global Logical Address Space
Material Type:
Ata de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Efficient Runtime Support for a Partitioned Global Logical Address Space

Larkins, D. Brian ; Snyder, John ; Dinan, James

Proceedings of the 47th International Conference on Parallel Processing, 2018, p.1-10

New York, NY, USA: ACM

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4
Scalable work stealing
Scalable work stealing
Material Type:
Ata de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Scalable work stealing

Dinan, James ; Larkins, D. Brian ; Sadayappan, P. ; Krishnamoorthy, Sriram ; Nieplocha, Jarek

Proceedings of the Conference on High Performance Computing Networking, Storage and Analysis, 2009, p.1-11

New York, NY, USA: ACM

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5
Exploring VoD in P2P Swarming Systems
Exploring VoD in P2P Swarming Systems
Material Type:
Ata de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Exploring VoD in P2P Swarming Systems

Annapureddy, S. ; Guha, S. ; Gkantsidis, C. ; Gunawardena, D. ; Rodriguez, P.

IEEE INFOCOM 2007 - 26th IEEE International Conference on Computer Communications, 2007, p.2571-2575

IEEE

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6
Enabling efficient multithreaded MPI communication through a library-based implementation of MPI endpoints
Enabling efficient multithreaded MPI communication through a library-based implementation of MPI endpoints
Material Type:
Ata de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Enabling efficient multithreaded MPI communication through a library-based implementation of MPI endpoints

Sridharan, Srinivas ; Dinan, James ; Kalamkar, Dhiraj D.

Proceedings of the International Conference for High Performance Computing, Networking, Storage and Analysis, 2014, p.487-498

Piscataway, NJ, USA: IEEE Press

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7
The Serotonin receptor 3E subunit variant HTR3E c.76G> A is confirmed as a risk factor for IBS-D in females
The Serotonin receptor 3E subunit variant HTR3E c.76G> A is confirmed as a risk factor for IBS-D in females
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Ata de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

The Serotonin receptor 3E subunit variant HTR3E c.76G> A is confirmed as a risk factor for IBS-D in females

Niesler, B ; Hattensperger, N ; Martinez, C ; Schmitteckert, S ; Houghton, LA ; Goebel-Stengel, M ; Knab, D ; Hammer, C ; D'Amato, M ; Zheng, T ; Monnikes, H ; Berens, S ; Kraus, F ; Andresen, V ; Frieling, T ; Keller, J ; Pehl, C ; Thoringer, C ; Hoffmann, P ; Nothen, MM ; Heilmann-Heimbach, S ; Franke, A ; Lieb, W ; Clarke, G ; Cryan, JF ; Dinan, TG ; Quigley, EM ; Spiller, R ; Beltran, C ; Herzog, W ; Vicario, M ; Santos, J ; Mayer, EA ; Sayuk, G ; Gazouli, M ; Bustamante, M ; Rabionet, K ; Estivill, X ; Boeckxstaens, G ; Wouters, MM ; Simren, M ; Kabisch, M ; Raithel, M ; Rappold, GA ; Schafert, R ; Lorenzo-Bermejo, J

NEUROGASTROENTEROLOGY AND MOTILITY, 2018, Vol.30 [Periódico revisado por pares]

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8
Influence of photoresist feature geometry on ECR plasma-etched HgCdTe trenches
Influence of photoresist feature geometry on ECR plasma-etched HgCdTe trenches
Material Type:
Ata de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Influence of photoresist feature geometry on ECR plasma-etched HgCdTe trenches

Benson, J. David ; Stoltz, Andrew J ; Kaleczyc, Andrew W ; Martinka, Mike ; Almeida, Leo A ; Boyd, Phillip R ; Dinan, John H

Proceedings of SPIE, 2002, Vol.4795, p.129-135

SPIE

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9
Fullerene incorporation in DNQ Novolak photoresist for increasing plasma etch resistance
Fullerene incorporation in DNQ Novolak photoresist for increasing plasma etch resistance
Material Type:
Ata de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Fullerene incorporation in DNQ Novolak photoresist for increasing plasma etch resistance

Benson, J. David ; Stoltz, Andrew J ; Kaleczy, Andrew W ; Dinan, John H

SPIE 2002

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10
Competitive and Considerate Congestion Control for Bulk Data Transfers
Competitive and Considerate Congestion Control for Bulk Data Transfers
Material Type:
Ata de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Competitive and Considerate Congestion Control for Bulk Data Transfers

Shao Liu ; Vojnovic, M. ; Gunawardena, D.

2007 Fifteenth IEEE International Workshop on Quality of Service, 2007, p.1-9

IEEE

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  2. 1996Até2001  (6)
  3. 2002Até2006  (6)
  4. 2007Até2011  (10)
  5. Após 2011  (9)
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