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Current Saturation and Voltage Gain in Bilayer Graphene Field Effect Transistors
Current Saturation and Voltage Gain in Bilayer Graphene Field Effect Transistors
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Current Saturation and Voltage Gain in Bilayer Graphene Field Effect Transistors

Szafranek, B. N ; Fiori, G ; Schall, D ; Neumaier, D ; Kurz, H

Nano letters, 2012-03, Vol.12 (3), p.1324-1328 [Periódico revisado por pares]

Washington, DC: American Chemical Society

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2
High On/Off Ratios in Bilayer Graphene Field Effect Transistors Realized by Surface Dopants
High On/Off Ratios in Bilayer Graphene Field Effect Transistors Realized by Surface Dopants
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High On/Off Ratios in Bilayer Graphene Field Effect Transistors Realized by Surface Dopants

Szafranek, B. N ; Schall, D ; Otto, M ; Neumaier, D ; Kurz, H

Nano letters, 2011-07, Vol.11 (7), p.2640-2643 [Periódico revisado por pares]

Washington, DC: American Chemical Society

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3
Experimental Verification of Carrier Multiplication in Graphene
Experimental Verification of Carrier Multiplication in Graphene
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Experimental Verification of Carrier Multiplication in Graphene

Plötzing, T ; Winzer, T ; Malic, E ; Neumaier, D ; Knorr, A ; Kurz, H

Nano letters, 2014-09, Vol.14 (9), p.5371-5375 [Periódico revisado por pares]

United States: American Chemical Society

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4
Strategies for reliable automatic onset time picking of acoustic emissions and of ultrasound signals in concrete
Strategies for reliable automatic onset time picking of acoustic emissions and of ultrasound signals in concrete
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Strategies for reliable automatic onset time picking of acoustic emissions and of ultrasound signals in concrete

Kurz, Jochen H. ; Grosse, Christian U. ; Reinhardt, Hans-Wolf

Ultrasonics, 2005-06, Vol.43 (7), p.538-546 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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5
Dissipative continuum model for self-organized pattern formation during ion-beam erosion
Dissipative continuum model for self-organized pattern formation during ion-beam erosion
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Dissipative continuum model for self-organized pattern formation during ion-beam erosion

Facsko, S. ; Bobek, T. ; Stahl, A. ; Kurz, H. ; Dekorsy, T.

Physical review. B, Condensed matter and materials physics, 2004-04, Vol.69 (15), Article 153412 [Periódico revisado por pares]

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6
Si/SiO2 multiple quantum wells for all silicon tandem cells : Conductivity and photocurrent measurements
Si/SiO2 multiple quantum wells for all silicon tandem cells : Conductivity and photocurrent measurements
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Si/SiO2 multiple quantum wells for all silicon tandem cells : Conductivity and photocurrent measurements

RÖLVER, R ; BERGHOFF, B ; BÄTZNER, D ; SPANGENBERG, B ; KURZ, H ; SCHMIDT, M ; STEGEMANN, B

Thin solid films, 2008-08, Vol.516 (20), p.6763-6766 [Periódico revisado por pares]

Lausanne: Elsevier Science

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7
Texturisation of multicrystalline silicon wafers for solar cells by reactive ion etching through colloidal masks
Texturisation of multicrystalline silicon wafers for solar cells by reactive ion etching through colloidal masks
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Texturisation of multicrystalline silicon wafers for solar cells by reactive ion etching through colloidal masks

Nositschka, W.A. ; Beneking, C. ; Voigt, O. ; Kurz, H.

Solar energy materials and solar cells, 2003-03, Vol.76 (2), p.155-166 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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8
Texturisation of multicrystalline silicon solar cells by RIE and plasma etching
Texturisation of multicrystalline silicon solar cells by RIE and plasma etching
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Texturisation of multicrystalline silicon solar cells by RIE and plasma etching

Nositschka, W.A. ; Voigt, O. ; Manshanden, P. ; Kurz, H.

Solar energy materials and solar cells, 2003-10, Vol.80 (2), p.227-237 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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9
Fabrication of nanostructures using a UV-based imprint technique
Fabrication of nanostructures using a UV-based imprint technique
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Fabrication of nanostructures using a UV-based imprint technique

Bender, M. ; Otto, M. ; Hadam, B. ; Vratzov, B. ; Spangenberg, B. ; Kurz, H.

Microelectronic engineering, 2000-06, Vol.53 (1), p.233-236 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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10
Self-Organized Hexagonal Patterns of Independent Magnetic Nanodots
Self-Organized Hexagonal Patterns of Independent Magnetic Nanodots
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Self-Organized Hexagonal Patterns of Independent Magnetic Nanodots

Bobek, T. ; Mikuszeit, N. ; Camarero, J. ; Kyrsta, S. ; Yang, L. ; Niño, M. Á. ; Hofer, C. ; Gridneva, L. ; Arvanitis, D. ; Miranda, R. ; de Miguel, J. J. ; Teichert, C. ; Kurz, H.

Advanced materials (Weinheim), 2007-12, Vol.19 (24), p.4375-4380 [Periódico revisado por pares]

Weinheim: WILEY-VCH Verlag

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