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Refinado por: Nome da Publicação: Journal Of Non-Crystalline Solids remover
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Properties of stacked dielectric films composed of SiO2/Si3N4/SiO2
Material Type:
Artigo
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Properties of stacked dielectric films composed of SiO2/Si3N4/SiO2

SANTUCCI, S ; LOZZI, L ; PASSACANTANDO, M ; PHANI, A. R ; PALUMBO, E ; BRACCHITTA, G ; DE TOMMASIS, R ; TORSI, A ; ALFONSETTI, R ; MOCCIA, G

Journal of non-crystalline solids, 1999-04, Vol.245 (1-3), p.224-231 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier

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Properties of stacked dielectric films composed of SiO 2/Si 3N 4/SiO 2
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Artigo
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Properties of stacked dielectric films composed of SiO 2/Si 3N 4/SiO 2

Santucci, S. ; Lozzi, L. ; Passacantando, M. ; Phani, A.R. ; Palumbo, E. ; Bracchitta, G. ; De Tommasis, R. ; Torsi, A. ; Alfonsetti, R. ; Moccia, G.

Journal of non-crystalline solids, 1999, Vol.245 (1), p.224-231 [Periódico revisado por pares]

Elsevier B.V

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