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| Result Number | Material Type | Add to My Shelf Action | Record Details and Options |
|---|---|---|---|
| 1 |
Material Type: Artigo
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Detecting Android Malware Using Clone Detection陈健 Manar H. Alalfi Thomas R. Dean 邹颖Journal of computer science and technology, 2015-09, Vol.30 (5), p.942-956 [Periódico revisado por pares]New York: Springer USTexto completo disponível |
| 2 |
Material Type: Artigo
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What Are They Talking About？ Analyzing Code Reviews in Pull-Based Development ModelLi, Zhi-Xing ; Yu, Yue ; Yin, Gang ; Wang, Tao ; Wang, Huai-MinJournal of computer science and technology, 2017-11, Vol.32 (6), p.1060-1075 [Periódico revisado por pares]New York: Springer USTexto completo disponível |
| 3 |
Material Type: Ata de Congresso
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DocToModel: Automated Authoring of Models from Diverse Requirements Specification DocumentsRajbhoj, Asha ; Nistala, Padmalata ; Kulkarni, Vinay ; Soni, Shivani ; Pathan, Ajim2023 IEEE/ACM 45th International Conference on Software Engineering: Software Engineering in Practice (ICSE-SEIP), 2023, p.199-210Piscataway, NJ, USA: IEEE PressSem texto completo |
| 4 |
Material Type: Artigo
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Real-life object-oriented systemsLauesen, S.IEEE software, 1998-03, Vol.15 (2), p.76-83 [Periódico revisado por pares]Los Alamitos: IEEETexto completo disponível |
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Material Type: Artigo
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A General Low-Cost Indirect Branch Prediction Using Target Address Pointers谢子超 佟冬 黄明凯Journal of computer science and technology, 2014-11, Vol.29 (6), p.929-946 [Periódico revisado por pares]Boston: Springer USTexto completo disponível |
| 6 |
Material Type: Artigo
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A retrospective on the VAX VMM security kernelKarger, P.A. ; Zurko, M.E. ; Bonin, D.W. ; Mason, A.H. ; Kahn, C.E.IEEE transactions on software engineering, 1991-11, Vol.17 (11), p.1147-1165 [Periódico revisado por pares]New York, NY: IEEETexto completo disponível |
| 7 |
Material Type: Artigo
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Augmenting Ada for SIMD Parallel ProcessingCline, C.L. ; Siegel, H.J.IEEE Trans. Software Eng.; (United States), 1985-09, Vol.SE-11 (9), p.970-977 [Periódico revisado por pares]New York: IEEETexto completo disponível |
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