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Simulation of TaNx deposition by Reactive PVD
Simulation of TaNx deposition by Reactive PVD
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Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Simulation of TaNx deposition by Reactive PVD

WOLF, H ; STREITER, R ; FRIEDEMANN, M ; BELSKY, P ; BAKAEVA, O ; LETZ, T ; GESSNER, T

Microelectronic engineering, 2010-10, Vol.87 (10), p.1907-1913 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier

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2
100 nm half-pitch double exposure KrF lithography using binary masks
100 nm half-pitch double exposure KrF lithography using binary masks
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Ata de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

100 nm half-pitch double exposure KrF lithography using binary masks

Geisler, S ; Bauer, J ; Haak, U ; Stolarek, D ; Schulz, K ; Wolf, H ; Meier, W ; Trojahn, M ; Matthus, E

Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering, 2008, Vol.6924, p.69241Z-69241Z-8

Bellingham, Wash: SPIE

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3
40 keV shaped electron beam lithography for LIGA intermediate mask fabrication
40 keV shaped electron beam lithography for LIGA intermediate mask fabrication
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Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

40 keV shaped electron beam lithography for LIGA intermediate mask fabrication

Lüttge, R. ; Adam, D. ; Burkhardt, F. ; Hoke, F. ; Schacke, H. ; Schmidt, M. ; Wolf, H. ; Schmidt, A.

Microelectronic engineering, 1999-05, Vol.46 (1), p.247-250 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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