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Handbook of plasma processing technology fundamentals, etching, deposition, and surface interactions
Handbook of plasma processing technology fundamentals, etching, deposition, and surface interactions
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Livro 		Adicionar ao Meu Espaço

Handbook of plasma processing technology fundamentals, etching, deposition, and surface interactions

Stephen M Rossnagel; J. J Cuomo; William D Westwood 1937- (William Dickson)

Park Ridge, N.J., U.S.A. Noyes Publications c1990

Localização: EPELM - Esc. Politécnica-Bib Eng Elet., Mec. e Naval    (537.52 H191 ) e outros locais(Acessar)

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Estudo do comportamento elétrico de dispositivos de potência a partir da otimização dos parâmetros de processo de deposição do filme SIPOS obtido por LPCVD
Estudo do comportamento elétrico de dispositivos de potência a partir da otimização dos parâmetros de processo de deposição do filme SIPOS obtido por LPCVD
Material Type:
Dissertação de Mestrado 		Adicionar ao Meu Espaço

Estudo do comportamento elétrico de dispositivos de potência a partir da otimização dos parâmetros de processo de deposição do filme SIPOS obtido por LPCVD

Alves, Marcelo Faustino

Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP; Universidade de São Paulo; Escola Politécnica 2003-02-26

Acesso online. A biblioteca também possui exemplares impressos.

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