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Refinado por: Nome da Publicação: Journal of Applied Physics remover assunto: Temperatura remover
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Metal-induced nanocrystalline structures in Ni-containing amorphous silicon thin films
Metal-induced nanocrystalline structures in Ni-containing amorphous silicon thin films
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Metal-induced nanocrystalline structures in Ni-containing amorphous silicon thin films

Fabio Aparecido Ferri Antonio Ricardo Zanatta; I Chambouleyron

Journal of Applied Physics Melville v. 100, n. 9, p. 094311-1-094311-7, Nov. 2006

Melville 2006

Localização: IFSC - Inst. Física de São Carlos    (PROD013067 )(Acessar)

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Metal-induced nanocrystalline structures in Ni-containing amorphous silicon thin films
Metal-induced nanocrystalline structures in Ni-containing amorphous silicon thin films
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Metal-induced nanocrystalline structures in Ni-containing amorphous silicon thin films

Fabio Aparecido Ferri Antonio Ricardo Zanatta; I Chambouleyron

Journal of Applied Physics Melville v. 100, n. 9, p. 094311-1-094311-7, Nov. 2006

Melville 2006

Localização: IFSC - Inst. Física de São Carlos    (PROD013067 )(Acessar)

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Ion implantation in titanium dioxide thin films studied by perturbed angular correlations
Ion implantation in titanium dioxide thin films studied by perturbed angular correlations
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Ion implantation in titanium dioxide thin films studied by perturbed angular correlations

Juliana Schell Doru C Lupascu; Artur Wilson Carbonari; Ronaldo Domingues Mansano 1964-; Iberê Souza Ribeiro Junior; Thien Thanh Dang; Irina Anusca; Harsh K Trivedi; Karl Johnston; Reiner Vianden

Journal of Applied Physics v. 121, n. 14, April 2017

2017

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Deste Autor:

  1. Ferri, F
  2. Chambouleyron, I
  3. Zanatta, A
  4. Schell, J
  5. Dang, T

Neste Assunto:

  1. Filmes Finos
  2. Níquel
  3. Silício
  4. Espectroscopia Raman
  5. Raios Gama

  • Realização: ABCD-USP USP   Logos de Redes Sociais: Freepik

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