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1
Fabrication and characterization of a directional anemometer based on a single chip MEMS flow sensor
Fabrication and characterization of a directional anemometer based on a single chip MEMS flow sensor
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Fabrication and characterization of a directional anemometer based on a single chip MEMS flow sensor

Piotto, M. ; Pennelli, G. ; Bruschi, P.

Microelectronic engineering, 2011-08, Vol.88 (8), p.2214-2217 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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2
Electrochemical etching in HF solution for silicon micromachining
Electrochemical etching in HF solution for silicon micromachining
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Electrochemical etching in HF solution for silicon micromachining

Barillaro, G. ; Nannini, A. ; Piotto, M.

Sensors and actuators. A. Physical., 2002-12, Vol.102 (1), p.195-201 [Periódico revisado por pares]

Lausanne: Elsevier B.V

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3
A Current-Mode, Dual Slope, Integrated Capacitance-to-Pulse Duration Converter
A Current-Mode, Dual Slope, Integrated Capacitance-to-Pulse Duration Converter
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A Current-Mode, Dual Slope, Integrated Capacitance-to-Pulse Duration Converter

Bruschi, P. ; Nizza, N. ; Piotto, M.

IEEE journal of solid-state circuits, 2007-09, Vol.42 (9), p.1884-1891 [Periódico revisado por pares]

New York, NY: IEEE

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4
A single chip, double channel thermal flow meter
A single chip, double channel thermal flow meter
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A single chip, double channel thermal flow meter

Bruschi, P. ; Dei, M. ; Piotto, M.

Microsystem technologies : sensors, actuators, systems integration, 2009-08, Vol.15 (8), p.1179-1186 [Periódico revisado por pares]

Berlin/Heidelberg: Springer-Verlag

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5
A compact package for integrated silicon thermal gas flow meters
A compact package for integrated silicon thermal gas flow meters
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A compact package for integrated silicon thermal gas flow meters

Bruschi, P. ; Nurra, V. ; Piotto, M.

Microsystem technologies, 2008-07, Vol.14 (7), p.943-949 [Periódico revisado por pares]

Berlin/Heidelberg: Springer-Verlag

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6
Silicon single-electron transistor fabricated by anisotropic etch and oxidation
Silicon single-electron transistor fabricated by anisotropic etch and oxidation
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Silicon single-electron transistor fabricated by anisotropic etch and oxidation

Pennelli, G. ; Piotto, M. ; Barillaro, G.

Microelectronic engineering, 2006-04, Vol.83 (4), p.1710-1713 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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7
A fabrication process for a silicon tunnel barrier with self-aligned gate
A fabrication process for a silicon tunnel barrier with self-aligned gate
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A fabrication process for a silicon tunnel barrier with self-aligned gate

Pennelli, G. ; Piotto, M.

Microelectronic engineering, 2006-04, Vol.83 (4), p.1559-1562 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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8
Electrochemical fabrication of buried folded microchannels into silicon substrates
Electrochemical fabrication of buried folded microchannels into silicon substrates
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Electrochemical fabrication of buried folded microchannels into silicon substrates

Barillaro, G. ; Nannini, A. ; Piotto, M.

Physica status solidi. A, Applications and materials science, 2007-05, Vol.204 (5), p.1464-1468 [Periódico revisado por pares]

Berlin: WILEY-VCH Verlag

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9
Silicon nanowires fabricated by means of an underetching technique
Silicon nanowires fabricated by means of an underetching technique
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Silicon nanowires fabricated by means of an underetching technique

Ciucci, S. ; D’Angelo, F. ; Diligenti, A. ; Pellegrini, B. ; Pennelli, G. ; Piotto, M.

Microelectronic engineering, 2005-03, Vol.78, p.338-342 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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10
A micromachined bistable 1×2 switch for optical fibers
A micromachined bistable 1×2 switch for optical fibers
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A micromachined bistable 1×2 switch for optical fibers

Pieri, F. ; Piotto, M.

Microelectronic engineering, 2000, Vol.53 (1), p.561-564 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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