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ICRF mode conversion in three-ion species heating experiment and in flow drive experiment on the Alcator C-Mod tokamak
ICRF mode conversion in three-ion species heating experiment and in flow drive experiment on the Alcator C-Mod tokamak
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ICRF mode conversion in three-ion species heating experiment and in flow drive experiment on the Alcator C-Mod tokamak

Lin, Y. ; Wukitch, S.J. ; Edlund, E. ; Ennever, P. ; Hubbard, A. E. ; Porkolab, M. ; Rice, J. ; Wright, J. Hillairet, J.

EPJ Web of Conferences, 2017, Vol.157, p.3030 [Periódico revisado por pares]

Les Ulis: EDP Sciences

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2
Characterization of CD-SEM metrology for iArF photoresist materials
Characterization of CD-SEM metrology for iArF photoresist materials
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Characterization of CD-SEM metrology for iArF photoresist materials

Bunday, Benjamin ; Cordes, Aaron ; Orji, N. G ; Piscani, Emil ; Cochran, Dan ; Byers, Jeff ; Allgair, John ; Rice, Bryan J ; Avitan, Yohanan ; Peltinov, Ram ; Bar-zvi, Maayan ; Adan, Ofer

Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering, 2008, Vol.6922, p.69221A-69221A-17

Bellingham, Wash: SPIE

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3
Effects of processing parameters on line-width roughness
Effects of processing parameters on line-width roughness
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Effects of processing parameters on line-width roughness

Rice, Bryan J ; Cao, Heidi B ; Chandhok, Manish ; Meagley, Robert P

Proceedings of SPIE, 2003, Vol.5039, p.384-392

SPIE

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4
One small step: world's first integrated EUVL process line
One small step: world's first integrated EUVL process line
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One small step: world's first integrated EUVL process line

Roberts, Jeanette M ; Bacuita, Terence ; Bristol, Robert L ; Cao, Heidi B ; Chandhok, Manish ; Lee, Sang H ; Panning, Eric M ; Shell, Melissa ; Zhang, Guojing ; Rice, Bryan J

Proc. SPIE, 2005, Vol.5751, p.64-77

SPIE

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5
Continuing 193nm optical lithography for 32nm imaging and beyond
Continuing 193nm optical lithography for 32nm imaging and beyond
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Continuing 193nm optical lithography for 32nm imaging and beyond

Piscani, Emil C ; Ashworth, Dominic ; Byers, Jeff ; Van Peski, Chris ; Zimmerman, Paul ; Rice, Bryan J

Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering, 2008, Vol.6924, p.69242I-69242I-12

Bellingham, Wash: SPIE

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6
Sources of line-width roughness for EUV resists
Sources of line-width roughness for EUV resists
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Ata de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Sources of line-width roughness for EUV resists

Cao, Heidi B ; Yueh, Wang ; Rice, Bryan J ; Roberts, Jeanette ; Bacuita, Terence ; Chandhok, Manish

Proceedings of SPIE, 2004, Vol.5376, p.757-764

SPIE

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7
An overview of fault models and testing approaches for reversible logic
An overview of fault models and testing approaches for reversible logic
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An overview of fault models and testing approaches for reversible logic

Rice, J. E.

2013 IEEE Pacific Rim Conference on Communications, Computers and Signal Processing (PACRIM), 2013, p.125-130

IEEE

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8
Characterization of flare on Intel’s EUV MET
Characterization of flare on Intel’s EUV MET
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Characterization of flare on Intel’s EUV MET

Lee, Sang Hun ; Chandhok, Manish ; Roberts, Jeanette ; Rice, Bryan J

Proc. SPIE, 2005, Vol.5751, p.293-300

SPIE

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9
Development of hyperspectral image projectors
Development of hyperspectral image projectors
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Development of hyperspectral image projectors

Rice, J. P ; Brown, S. W ; Neira, J. E

Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering, 2006, Vol.6297, p.629701-629701-15

Bellingham, Washington: SPIE

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10
Implementing flare compensation for EUV masks through localized mask CD resizing
Implementing flare compensation for EUV masks through localized mask CD resizing
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Implementing flare compensation for EUV masks through localized mask CD resizing

Krautschik, Christof G ; Chandhok, Manish ; Zhang, Guojing ; Lee, Sang Hun ; Goldstein, Michael ; Panning, Eric M ; Rice, Bryan J ; Bristol, Robert L ; Singh, Vivek

Proceedings of SPIE, 2003, Vol.5037, p.58-68

SPIE

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  2. 1982Até1992  (71)
  3. 1993Até2002  (191)
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  5. Após 2013  (48)
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