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1	Material Type: Artigo		Visualization of Streamer Channels and Shock Waves Generated by Positive Pulsed Corona Discharge Using Laser Schlieren Method Ono, Ryo ; Oda, Tetsuji Japanese Journal of Applied Physics, 2004-01, Vol.43 (1), p.321-327 [Periódico revisado por pares] Texto completo disponível Exibir Online Detalhes Resenhas & Tags Mais Opções Nº de Citações Citações Citado por
2	Material Type: Artigo		Advanced Organic Polymer for the Aggressive Scaling of Low-$k$ Materials Pantouvaki, Marianna ; Huffman, Craig ; Zhao, Larry ; Heylen, Nancy ; Ono, Yukiharu ; Nakajima, Michio ; Nakatani, Koji ; Beyer, Gerald P ; Baklanov, Mikhail R Japanese Journal of Applied Physics, 2011-04, Vol.50 (4), p.04DB01-04DB01-5 [Periódico revisado por pares] The Japan Society of Applied Physics Texto completo disponível Exibir Online Detalhes Resenhas & Tags Mais Opções Nº de Citações Citações Citado por
3	Material Type: Artigo		Low-Temperature Synthesis and Electric Properties of New Layered Cobaltite, SrxCoO2 Ishikawa, Ryuji ; Ono, Yasuhiro ; Miyazaki, Yuzuru ; Kajitani, Tsuyoshi Japanese Journal of Applied Physics, 2002-03, Vol.41 (Part 2, No. 3B), p.L337-L339 [Periódico revisado por pares] Texto completo disponível Exibir Online Detalhes Resenhas & Tags Mais Opções Nº de Citações Citações Citado por
4	Material Type: Artigo		Identification of Potential Estrogenic Environmental Pollutants by Terahertz Transmission Spectroscopy Quema, Alex ; Takahashi, Hiroshi ; Sakai, Masahiro ; Goto, Masahiro ; Ono, Shingo ; Sarukura, Nobuhiko ; Shioda, Ryu ; Yamada, Norihide Japanese Journal of Applied Physics, 2003-08, Vol.42 (Part 2, No. 8A), p.L932-L934 [Periódico revisado por pares] Texto completo disponível Exibir Online Detalhes Resenhas & Tags Mais Opções Nº de Citações Citações Citado por
5	Material Type: Artigo		Band-Structure Design of Fluoride Complex Materials for Deep-Ultraviolet Light-Emitting Diodes Ono, Shingo ; Ouenzerfi, Riadh El ; Quema, Alex ; Murakami, Hidetoshi ; Sarukura, Nobuhiko ; Nishimatsu, Takeshi ; Terakubo, Noriaki ; Mizuseki, Hiroshi ; Kawazoe, Yoshiyuki ; Yoshikawa, Akira ; Fukuda, Tsuguo Japanese Journal of Applied Physics, 2005-10, Vol.44 (10R), p.7285 [Periódico revisado por pares] Texto completo disponível Exibir Online Detalhes Resenhas & Tags Mais Opções Nº de Citações Citações Citado por
6	Material Type: Artigo		Photothermal response characteristics of host-guest liquid crystals ONO, H ; KAWATSUKI, N Japanese Journal of Applied Physics, 1997, Vol.36 (2), p.761-766 [Periódico revisado por pares] Tokyo: Japanese journal of applied physics Texto completo disponível Exibir Online Detalhes Resenhas & Tags Mais Opções Nº de Citações Citações Citado por
7	$Fabrication of a Si1-xGex channel metal-oxide-semiconductor field-effect transistor (MOSFET) containing high Ge fraction layer by low-pressure chemical vapor deposition$ $Fabrication of a Si1-xGex channel metal-oxide-semiconductor field-effect transistor (MOSFET) containing high Ge fraction layer by low-pressure chemical vapor deposition$ Material Type: Artigo		Fabrication of a Si1-xGex channel metal-oxide-semiconductor field-effect transistor (MOSFET) containing high Ge fraction layer by low-pressure chemical vapor deposition GOTO, K ; MUROTA, J ; MAEDA, T ; SCHÜTZ, R ; AIZAWA, K ; KIRCHER, R ; YOKOO, K ; ONO, S Japanese journal of applied physics, 1993, Vol.32 (1B), p.438-441 [Periódico revisado por pares] Tokyo: Japanese journal of applied physics Texto completo disponível Exibir Online Detalhes Resenhas & Tags Mais Opções Nº de Citações Citações Citado por
8	Material Type: Artigo		Dual wavelength optical head for 0.6 mm and 1.2 mm substrate thicknesses KATAYAMA, R ; KOMATSU, Y ; ONO, Y Japanese Journal of Applied Physics, 1997-01, Vol.36 (1B), p.460-466 [Periódico revisado por pares] Tokyo: Japanese journal of applied physics Texto completo disponível Exibir Online Detalhes Resenhas & Tags Mais Opções Nº de Citações Citações Citado por
9	Material Type: Artigo		Nanometer pattern-mask fabricated by conventional photolithography FUJIMARU, K ; ONO, T ; NAGAI, R ; MATSUMURA, H Japanese Journal of Applied Physics, 1997, Vol.36 (12B), p.7786-7790 [Periódico revisado por pares] Tokyo: Japanese journal of applied physics Texto completo disponível Exibir Online Detalhes Resenhas & Tags Mais Opções Nº de Citações Citações Citado por
10	Material Type: Artigo		FABRICATION AND CHARACTERIZATION OF SUB-MICRON METAL-FERROELECTRIC-INSULATOR-SEMICONDUCTOR FIELD EFFECT TRANSISTORS WITH Pt/Pb5Ge3O11/ZrO2/Si STRUCTURE Zhang, F ; Hsu, S T ; Ono, Y ; Ulrich, B ; Zhuang, W ; Ying, H Jpn.J.Appl.Phys ,Part 2. Vol. 40, no. 6B, pp. L635-L637. 2001, 2001-01, Vol.40 (6B), p.L635-L637 [Periódico revisado por pares] Texto completo disponível Exibir Online Detalhes Resenhas & Tags Mais Opções Nº de Citações Citações Citado por

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