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Plasma immersion ion implantation in arc and glow discharge plasmas submitted to low magnetic fields
Plasma immersion ion implantation in arc and glow discharge plasmas submitted to low magnetic fields
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Plasma immersion ion implantation in arc and glow discharge plasmas submitted to low magnetic fields

Tan, I.H. ; Ueda, M. ; Oliveira, R.M. ; Dallaqua, R.S. ; Reuther, H.

Surface & coatings technology, 2007-02, Vol.201 (9), p.4826-4831 [Periódico revisado por pares]

Lausanne: Elsevier B.V

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2
Secondary electron suppression in nitrogen plasma ion implantation using a low DC magnetic field
Secondary electron suppression in nitrogen plasma ion implantation using a low DC magnetic field
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Secondary electron suppression in nitrogen plasma ion implantation using a low DC magnetic field

Ueda, M. ; Tan, I.H. ; Dallaqua, R.S. ; Rossi, J.O.

Surface & coatings technology, 2007-04, Vol.201 (15), p.6597-6600 [Periódico revisado por pares]

Lausanne: Elsevier B.V

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3
Treatment of polymers by plasma immersion ion implantation for space applications
Treatment of polymers by plasma immersion ion implantation for space applications
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Treatment of polymers by plasma immersion ion implantation for space applications

Tan, I.H ; Ueda, M ; Dallaqua, R.S ; Rossi, J.O ; Beloto, A.F ; Tabacniks, M.H ; Demarquette, N.R ; Inoue, Y

Surface & coatings technology, 2004-08, Vol.186 (1), p.234-238 [Periódico revisado por pares]

Lausanne: Elsevier B.V

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4
Aluminum plasma immersion ion implantation in polymers
Aluminum plasma immersion ion implantation in polymers
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Aluminum plasma immersion ion implantation in polymers

Ueda, M. ; Tan, I.H. ; Dallaqua, R.S. ; Rossi, J.O. ; Barroso, J.J. ; Tabacniks, M.H.

Nuclear instruments & methods in physics research. Section B, Beam interactions with materials and atoms, 2003-05, Vol.206 (Complete), p.760-766 [Periódico revisado por pares]

Elsevier B.V

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5
Metal-arc plasma ion implantation in a straight magnetic filter
Metal-arc plasma ion implantation in a straight magnetic filter
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Metal-arc plasma ion implantation in a straight magnetic filter

Ueda, M. ; Dallaqua, R.S. ; Rossi, J.O. ; Tan, I.H. ; Abramof, E. ; Beloto, A.F. ; Del Bosco, E.

IEEE transactions on plasma science, 2002-10, Vol.30 (5), p.1843-1847 [Periódico revisado por pares]

New York: IEEE

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