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Refinado por: Nome da Publicação: Japanese Journal Of Applied Physics remover assunto: Electronics remover
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Nanometer-scale lithography on the oligosilane Langmuir-Blodgett film
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Nanometer-scale lithography on the oligosilane Langmuir-Blodgett film

MARUYAMA, H ; KOSAI, N ; SATO, T ; SAGISAKA, S ; SEGAWA, H ; SHIMIDZU, T ; TANAKA, K

Japanese Journal of Applied Physics, 1997, Vol.36 (12A), p.7312-7316 [Periódico revisado por pares]

Tokyo: Japanese journal of applied physics

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2
Maskless ion implantation of cerium by focused ion beam
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Artigo
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Maskless ion implantation of cerium by focused ion beam

KAGAMI, M ; SHIOKAWA, T ; SEGAWA, Y ; AOYAGI, Y ; NAMBA, S ; OKADA, H ; ITO, T

Japanese Journal of Applied Physics, 1988-06, Vol.27 (6), p.L1157-L1159 [Periódico revisado por pares]

Tokyo: Japanese journal of applied physics

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