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Resultados de 21 a 30 de 74  para Produção Intelectual da USP

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21
Deposição química a vapor de óxido de silício assistida por plasma de alta densidade acoplado indutivamente (ICP-CVD)
Deposição química a vapor de óxido de silício assistida por plasma de alta densidade acoplado indutivamente (ICP-CVD)
Material Type:
Dissertação de Mestrado 		Adicionar ao Meu Espaço

Deposição química a vapor de óxido de silício assistida por plasma de alta densidade acoplado indutivamente (ICP-CVD)

Ani Sobral Torres Ronaldo Domingues Mansano 1964-

2002

Localização: EPBC - Esc. Politécnica-Bib Central    (FD-3276 ) e outros locais(Acessar)

22
High density plasma chemical vapor deposition of diamond-like carbon films
High density plasma chemical vapor deposition of diamond-like carbon films
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

High density plasma chemical vapor deposition of diamond-like carbon films

Ana Paula Mousinho Ronaldo Domingues Mansano 1964-; Marcos Massi; Luís da Silva Zambom

Microelectronics Journal Luton v. 34, n. 5-8, p. 627-629, May/Aug. 2003

Luton 2003

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23
High density plasma chemical vapor deposition of diamond-like carbon films
High density plasma chemical vapor deposition of diamond-like carbon films
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

High density plasma chemical vapor deposition of diamond-like carbon films

Ana Paula Mousinho Ronaldo Domingues Mansano 1964-; Marcos Massi; Luís da Silva Zambom

Microelectronics Journal Luton v. 34, n. 5-8, p. 627-629, May/Aug. 2003

Luton 2003

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24
Silicon nitride deposited by inductively coupled plasma using dichlorosilane and ammonia
Silicon nitride deposited by inductively coupled plasma using dichlorosilane and ammonia
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Silicon nitride deposited by inductively coupled plasma using dichlorosilane and ammonia

Luís da Silva Zambom Ronaldo Domingues Mansano 1964-

Vacuum London : Pergamon Press, 2003 v. 71, n. 4, p. 439-444, July 2003

London 2003

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25
Comparative sterilization effectiveness of plasma in O2-H2O2 mixtures and ethylene oxide treatment
Comparative sterilization effectiveness of plasma in O2-H2O2 mixtures and ethylene oxide treatment
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Comparative sterilization effectiveness of plasma in O2-H2O2 mixtures and ethylene oxide treatment

Juliano de Morais Ferreira Silva A. J Moreira; D. C Oliveira (*); C. B Bonato; Ronaldo Domingues Mansano 1964-; Terezinha de Jesus Andreoli Pinto

Journal of pharmaceutical science and technology v.61, n.3, p. 204-210, 2007

Bethesda 2007

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26
Silicon nitride deposited by inductively coupled plasma using dichlorosilane and ammonia
Silicon nitride deposited by inductively coupled plasma using dichlorosilane and ammonia
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Silicon nitride deposited by inductively coupled plasma using dichlorosilane and ammonia

Luís da Silva Zambom Ronaldo Domingues Mansano 1964-

Vacuum London : Pergamon Press, 2003 v. 71, n. 4, p. 439-444, July 2003

London 2003

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27
Comparative sterilization effectiveness of plasma in O2-H2O2 mixtures and ethylene oxide treatment
Comparative sterilization effectiveness of plasma in O2-H2O2 mixtures and ethylene oxide treatment
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Comparative sterilization effectiveness of plasma in O2-H2O2 mixtures and ethylene oxide treatment

Juliano de Morais Ferreira Silva A. J Moreira; D. C Oliveira (*); C. B Bonato; Ronaldo Domingues Mansano 1964-; Terezinha de Jesus Andreoli Pinto

Journal of pharmaceutical science and technology v.61, n.3, p. 204-210, 2007

Bethesda 2007

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28
Mecanismos induzidos pelo material de eletrodo nos processos de corrosão por plasma
Mecanismos induzidos pelo material de eletrodo nos processos de corrosão por plasma
Material Type:
Tese de Doutorado 		Adicionar ao Meu Espaço

Mecanismos induzidos pelo material de eletrodo nos processos de corrosão por plasma

Ronaldo Ruas Patrick Bernard Verdonck 1958-

2006

Localização: EPBC - Esc. Politécnica-Bib Central    (FT-2233 ) e outros locais(Acessar)

29
Células solares de silício semicristalino tratadas em plasma rf de hidrogênio
Células solares de silício semicristalino tratadas em plasma rf de hidrogênio
Material Type:
Livro 		Adicionar ao Meu Espaço

Células solares de silício semicristalino tratadas em plasma rf de hidrogênio

Maria Aparecida Godoy Soler Pajanian Inés Pereyra 1947-; Adnei Melges de Andrade 1943-

Sao Paulo : Epusp, 1989 Coletanea epusp, 2/89 Contribuicoes a Engenharia de Eletricidade

São Paulo Epusp 1989

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Estudo e desenvolvimento de processos de deposição por plasma de filmes de carbono amorfo hidrogenado (Diamond Like Carbon - DLC)
Estudo e desenvolvimento de processos de deposição por plasma de filmes de carbono amorfo hidrogenado (Diamond Like Carbon - DLC)
Material Type:
Tese (Outras) 		Adicionar ao Meu Espaço

Estudo e desenvolvimento de processos de deposição por plasma de filmes de carbono amorfo hidrogenado (Diamond Like Carbon - DLC)

Ronaldo Domingues Mansano 1964-

2002

Localização: EPBC - Esc. Politécnica-Bib Central    (FT-1723 )(Acessar)

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Deste Autor:

  1. Mansano, R
  2. Maciel, H
  3. Massi, M
  4. Verdonck, P
  5. Mousinho, A

Neste Assunto:

  1. Filmes Finos
  2. Silício
  3. Semicondutores
  4. Nanopartículas
  5. Corrosão

  • Realização: ABCD-USP USP   Logos de Redes Sociais: Freepik

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