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Resultados de 11 a 20 de 74  para Produção Intelectual da USP

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11
A comparative study of single and double langmuir probe techniques for RF plasma characterization
A comparative study of single and double langmuir probe techniques for RF plasma characterization
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

A comparative study of single and double langmuir probe techniques for RF plasma characterization

Raul Murete de Castro Giuseppe Antonio Cirino; Patrick Bernard Verdonck 1958-; Homero Santiago Maciel; Marcos Massi; M B Pisani; Ronaldo Domingues Mansano 1964-

Contributions to plasma physics Berlin v.39, n.3, p.235-246, 1999

Berlin 1999

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12
Plasma polymerized ethyl ether for obtaining thin films for sensor development
Plasma polymerized ethyl ether for obtaining thin films for sensor development
Material Type:
Livro 		Adicionar ao Meu Espaço

Plasma polymerized ethyl ether for obtaining thin films for sensor development

Roberto da Rocha Lima Rodrigo Amorim Motta Carvalho; Maria Lucia Pereira da Silva 1957-; Nicole Raymonde Demarquette 1966-

Martino J.A. ; Pavanello, M.A. ; Morimoto, N.I. eds Microelectronic Technology and Devices SBMicro 2003 Pennington : Electrochemical Society, 2003

Pennington Electrochemical Society 2003

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13
Propagacao nao estacionaria de ondas ion-acusticas nao lineares num plasma com ions negativos
Propagacao nao estacionaria de ondas ion-acusticas nao lineares num plasma com ions negativos
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Propagacao nao estacionaria de ondas ion-acusticas nao lineares num plasma com ions negativos

H. S. Maciel M Uehara; Congresso Brasileiro de Aplicacoes de Vacuo Na Industria e Na Ciencia (13. 1992 Campinas); Encontro Latino-Americano sobre Plasmas Frios (1. 1992 Campinas)

Resumos Campinas : Unicamp, 1992

Campinas Unicamp 1992

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14
Determination of thermal-electrical parameters of graphite die for spark plasma sintering
Determination of thermal-electrical parameters of graphite die for spark plasma sintering
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Determination of thermal-electrical parameters of graphite die for spark plasma sintering

Fauto Kenzo Chinen Júlio Cezar Adamowski 1954-; International Congress of Mechanical Engineering (20. 2009 Gramado)

Proceedings of COBEM Rio de Janeiro : ABCM, 2009

Rio de Janeiro ABCM 2009

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15
Brasil desenvolve tecnologia do plasma
Brasil desenvolve tecnologia do plasma
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Brasil desenvolve tecnologia do plasma

Wilson da Costa Bueno 1948-

Tecnologia em Revista São Paulo v. 1, n. 2, p. 41-42, jul./ago. 1989

São Paulo 1989

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16
Brasil desenvolve tecnologia do plasma
Brasil desenvolve tecnologia do plasma
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Brasil desenvolve tecnologia do plasma

Wilson da Costa Bueno 1948-

Tecnologia em Revista São Paulo v. 1, n. 2, p. 41-42, jul./ago. 1989

São Paulo 1989

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17
Estudo da pureza de filmes depositados por "Vacuum Arc Plasma Deposition System"
Estudo da pureza de filmes depositados por "Vacuum Arc Plasma Deposition System"
Material Type:
Dissertação de Mestrado 		Adicionar ao Meu Espaço

Estudo da pureza de filmes depositados por "Vacuum Arc Plasma Deposition System"

Deilton Reis Martins Maria Cecília Barbosa da Silveira Salvadori

2002

Localização: EPBC - Esc. Politécnica-Bib Central    (FD-3122 ) e outros locais(Acessar)

18
Plasma etching of DLC films for microfluidic channels
Plasma etching of DLC films for microfluidic channels
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Plasma etching of DLC films for microfluidic channels

Marcos Massi Juan Manuel Jaramillo Ocampo; Homero Santiago Maciel; K Grigorov; C Otani; L. V Santos; Ronaldo Domingues Mansano 1964-

Microelectronics Journal, Luton : Mackintosh, 2003 v. 34, n. 5-8, p. 635-638, May/Aug. 2003

Luton 2003

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19
Plasma etching of DLC films for microfluidic channels
Plasma etching of DLC films for microfluidic channels
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Plasma etching of DLC films for microfluidic channels

Marcos Massi Juan Manuel Jaramillo Ocampo; Homero Santiago Maciel; K Grigorov; C Otani; L. V Santos; Ronaldo Domingues Mansano 1964-

Microelectronics Journal, Luton : Mackintosh, 2003 v. 34, n. 5-8, p. 635-638, May/Aug. 2003

Luton 2003

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20
Estudos sobre um jato de plasma para corrosão de materiais eletrônicos em alto vácuo
Estudos sobre um jato de plasma para corrosão de materiais eletrônicos em alto vácuo
Material Type:
Tese de Doutorado 		Adicionar ao Meu Espaço

Estudos sobre um jato de plasma para corrosão de materiais eletrônicos em alto vácuo

Paulo Eduardo Lima Homero Santiago Maciel

2004

Localização: EPBC - Esc. Politécnica-Bib Central    (FT-1993 ) e outros locais(Acessar)

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Deste Autor:

  1. Mansano, R
  2. Maciel, H
  3. Massi, M
  4. Verdonck, P
  5. Mousinho, A

Neste Assunto:

  1. Filmes Finos
  2. Silício
  3. Semicondutores
  4. Nanopartículas
  5. Corrosão

  • Realização: ABCD-USP USP   Logos de Redes Sociais: Freepik

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