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Resultados de 1 a 10 de 25  para Produção Intelectual da USP

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1
Escoamento de filmes de psg para processamento térmico rápido em ambiente de vácuo
Escoamento de filmes de psg para processamento térmico rápido em ambiente de vácuo
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Escoamento de filmes de psg para processamento térmico rápido em ambiente de vácuo

Sebastião Gomes dos Santos Filho 1962- Jacobus Willibrordus Swart 1950-; Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletrônica (2. 1987 São Paulo)

Anais São Paulo : Sbmicro/Epusp, 1987

São Paulo Sbmicro/Epusp 1987

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2
Um processo CMOS de cavidade dupla para comprimento de porta de 2'mu'm - resultados finais
Um processo CMOS de cavidade dupla para comprimento de porta de 2'mu'm - resultados finais
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Um processo CMOS de cavidade dupla para comprimento de porta de 2'mu'm - resultados finais

João Antonio Martino 1959- Jacobus Willibrordus Swart 1950-; Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletrônica (4. 1989 Porto Alegre)

Anais

Porto Alegre Sociedade Brasileira de Microeletrônica 1989

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3
Verificação da redistribuição de arsenio no processo de formação de siliceto de titanio por rtp em vacuo
Verificação da redistribuição de arsenio no processo de formação de siliceto de titanio por rtp em vacuo
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Verificação da redistribuição de arsenio no processo de formação de siliceto de titanio por rtp em vacuo

Rogério Furlan 1959- Jacobus Willibrordus Swart 1950-; Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletrônica (3. 1988 São Paulo)

Anais São Paulo : Sbmicro/Epusp, 1988

São Paulo Sbmicro/Epusp 1988

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4
Formation of nickel monosilicide onto (100) silicon wafer surfaces
Formation of nickel monosilicide onto (100) silicon wafer surfaces
Material Type:
Livro 		Adicionar ao Meu Espaço

Formation of nickel monosilicide onto (100) silicon wafer surfaces

Ronaldo Willian Reis Sebastião Gomes dos Santos Filho 1962-; Armando Antonio Maria Laganá 1952-; Ioshiaki Doi; Jacobus Willibrordus Swart 1950-

Morimoto, N.I.; Ribas, R.P.; Verdonck, P.B Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002 Pennington : The Electrochemical Society, 2002

Pennington The Electrochemical Society 2002

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5
Fabrication of submicron structures in polycristalline silicon by reactive ion etching using fluorine- and chlorine- containing plasmas
Fabrication of submicron structures in polycristalline silicon by reactive ion etching using fluorine- and chlorine- containing plasmas
Material Type:
Livro 		Adicionar ao Meu Espaço

Fabrication of submicron structures in polycristalline silicon by reactive ion etching using fluorine- and chlorine- containing plasmas

C Reyes Betanzo Stanislav A Moshkalyov; Antonio Carlos Seabra 1961-; Jacobus Willibrordus Swart 1950-

Martino J.A. ; Pavanello, M.A. ; Morimoto, N.I. eds Microelectronic Technology and Devices SBMicro 2003 Pennington : Electrochemical Society, 2003

Pennington Electrochemical Society 2003

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6
Formation of nickel silicides onto (100) silicon wafer surfaces using a thin platinum interlayer
Formation of nickel silicides onto (100) silicon wafer surfaces using a thin platinum interlayer
Material Type:
Livro 		Adicionar ao Meu Espaço

Formation of nickel silicides onto (100) silicon wafer surfaces using a thin platinum interlayer

Ronaldo Willian Reis Sebastião Gomes dos Santos Filho 1962-; Ioshiaki Doi; Jacobus Willibrordus Swart 1950-

Martino J.A. ; Pavanello, M.A. ; Morimoto, N.I. eds Microelectronic Technology and Devices SBMicro 2003 Pennington : Electrochemical Society, 2003

Pennington Electrochemical Society 2003

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7
Estudo preliminar da formação de siliceto de cobalto
Estudo preliminar da formação de siliceto de cobalto
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Estudo preliminar da formação de siliceto de cobalto

W J Freitas Jacobus Willibrordus Swart 1950-; Amilton Sinatora 1951-; Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica (3. 1988 São Paulo)

Anais São Paulo : Sbmicro/Epusp, 1988

São Paulo Sbmicro/Epusp 1988

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8
Titanium silicide formation and arsenic dopant behavior under rtp in vacuum
Titanium silicide formation and arsenic dopant behavior under rtp in vacuum
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Titanium silicide formation and arsenic dopant behavior under rtp in vacuum

Rogério Furlan 1959- Jacobus Willibrordus Swart 1950-; Eletrochemical Society Technical Meeting (174. 1988 Chicago)

Pennington v.88, n.2 , p.377-8, 1988 Extended Abstracts

Pennington 1988

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9
Medida experimental do atraso rc em linhas de interconexao
Medida experimental do atraso rc em linhas de interconexao
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Medida experimental do atraso rc em linhas de interconexao

Sebastião Gomes dos Santos Filho 1962- Jacobus Willibrordus Swart 1950-; Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica (3. 1988 São Paulo)

Anais São Paulo : Sbmicro/Epusp, 1988

São Paulo Sbmicro/Epusp 1988

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10
Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2005
Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2005
Material Type:
Livro 		Adicionar ao Meu Espaço

Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2005

Cor Claeys Jacobus Willibrordus Swart 1950-; Nilton Itiro Morimoto 1962-; Patrick Bernard Verdonck 1958-; International Symposium on Microelectronics Technology and Devices, SBMICRO (20 2005 Florianópolis, SC)

Pennington The Electrochemical Society 2005

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