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Effect of incubation time on preparation of continuous and flat Ru films
Effect of incubation time on preparation of continuous and flat Ru films
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Effect of incubation time on preparation of continuous and flat Ru films

Funakubo, Hiroshi ; Shiraishi, Takahisa ; Oikawa, Takahiro ; Hirano, Masaki ; Chiba, Hirokazu ; Kawano, Kazuhisa

Journal of vacuum science & technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 2015-01, Vol.33 (1) [Periódico revisado por pares]

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2
Measurements of photon stimulated desorption from thick and thin oxide of KEKB collider copper beam chambers and a stainless steel beam chamber
Measurements of photon stimulated desorption from thick and thin oxide of KEKB collider copper beam chambers and a stainless steel beam chamber
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Measurements of photon stimulated desorption from thick and thin oxide of KEKB collider copper beam chambers and a stainless steel beam chamber

Foerster, C. L. ; Lanni, C. ; Kanazawa, K.

Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, 2001-07, Vol.19 (4), p.1652-1656 [Periódico revisado por pares]

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3
Reactive magnetron sputter deposition of niobium nitride films
Reactive magnetron sputter deposition of niobium nitride films
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Reactive magnetron sputter deposition of niobium nitride films

Wong, M. S. ; Sproul, W. D. ; Chu, X. ; Barnett, S. A.

Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, 1993-07, Vol.11 (4), p.1528-1533 [Periódico revisado por pares]

Melville, NY: American Institute of Physics

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4
Field emission characteristics of SiC capped Si tip array by ion beam synthesis
Field emission characteristics of SiC capped Si tip array by ion beam synthesis
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Field emission characteristics of SiC capped Si tip array by ion beam synthesis

Chen, Dihu ; Cheung, W. Y. ; Wong, S. P. ; Fung, Y. M. ; Xu, J. B. ; Wilson, I. H. ; Kwok, R. W. M.

Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, 1999-07, Vol.17 (4), p.2109-2112 [Periódico revisado por pares]

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5
1.5 μm to 0.87 μm optical upconversion using wafer fusion technology
1.5 μm to 0.87 μm optical upconversion using wafer fusion technology
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1.5 μm to 0.87 μm optical upconversion using wafer fusion technology

Luo, H. ; Ban, D. ; Liu, H. C. ; SpringThorpe, A. J. ; Wasilewski, Z. R. ; Buchanan, M. ; Glew, R.

Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, 2004-05, Vol.22 (3), p.788-791 [Periódico revisado por pares]

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6
Diamond coated silicon field emitter array
Diamond coated silicon field emitter array
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Diamond coated silicon field emitter array

Albin, S. ; Fu, W. ; Varghese, A. ; Lavarias, A. C. ; Myneni, G. R.

Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, 1999-07, Vol.17 (4), p.2104-2108 [Periódico revisado por pares]

United States

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7
Emitted current instability from silicon field emission emitters due to sputtering by residual gas ions
Emitted current instability from silicon field emission emitters due to sputtering by residual gas ions
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Emitted current instability from silicon field emission emitters due to sputtering by residual gas ions

Karain, W. I. ; Knight, Larry V. ; Allred, David. D. ; Reyes‐Mena, A.

Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, 1994-07, Vol.12 (4), p.2581-2585 [Periódico revisado por pares]

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