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1
EXAFS analysis on SiOxNy films
EXAFS analysis on SiOxNy films
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Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

EXAFS analysis on SiOxNy films

Denise Criado Márcia Carvalho de Abreu Fantini; Inés Pereyra 1947-; Brazilian MRS Meeting (5. 2006 Florianópolis, SC)

Abstracts

Florianópolis SBPMat - Sociedade Brasileira de Pesquisa em Materiais 2006

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2
Structural properties of electrochromic 'NI''O IND.X'
Structural properties of electrochromic 'NI''O IND.X'
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Structural properties of electrochromic 'NI''O IND.X'

Márcia Carvalho de Abreu Fantini I C Faria; Roberto Manuel Torresi; A Gorenstein; Meeting of the Electrochemical Society (184. 1993 New Orleans)

Meeting Program Pennington : Electrochemical Society Inc, 1993

Pennington Electrochemical Society Inc 1993

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3
Analise por difracao de raios x de filmes finos eletrocromicos de oxido de niquel
Analise por difracao de raios x de filmes finos eletrocromicos de oxido de niquel
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Analise por difracao de raios x de filmes finos eletrocromicos de oxido de niquel

I C Faria A Gorenstein; P S P Cardona; Márcia Carvalho de Abreu Fantini; Encontro Nacional de Fisica da Materia Condensada (16. 1993 Caxambu)

Programa e Resumos São Paulo : Sociedade Brasileira de Fisica, 1993

São Paulo Sociedade Brasileira de Fisica 1993

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4
Estrutura de ordem local de filmes de oxi-nitreto de silício amorfo higrogenado
Estrutura de ordem local de filmes de oxi-nitreto de silício amorfo higrogenado
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Estrutura de ordem local de filmes de oxi-nitreto de silício amorfo higrogenado

Wanderla Luis Scopel Márcia Carvalho de Abreu Fantini; Inés Pereyra 1947-; Reunião Anual de Usuários do Laboratório Nacional de Luz Síncrotron-LNLS (10. 2000 Campinas)

Resumos de Trabalhos Campinas : LNLS, 2000

Campinas LNLS 2000

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5
Study of the structural properties of the PECVD SiOxNy dielectric layers obtained with different RF powers by XANES and EXAFS analysis
Study of the structural properties of the PECVD SiOxNy dielectric layers obtained with different RF powers by XANES and EXAFS analysis
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Study of the structural properties of the PECVD SiOxNy dielectric layers obtained with different RF powers by XANES and EXAFS analysis

Katia Franklin Albertin Márcia Carvalho de Abreu Fantini; Inés Pereyra 1947-; Brazilian MRS Meeting (5. 2006 Florianópolis, SC)

Abstracts

Florianópolis SBPMat - Sociedade Brasileira de Pesquisa em Materiais 2006

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6
Exafs analysis on sioxny films
Exafs analysis on sioxny films
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Exafs analysis on sioxny films

Inés Pereyra 1947- Márcia Carvalho de Abreu Fantini; Denise Criado; Encontro da Sociedade Brasileira de Pesquisas em Materiais (SBPMat (5. 2006 Florianopólis, SC)

Poster Session G522 Rio de Janeiro : SBPMat, 2006

Rio de Janeiro SBPMat 2006

Acesso online

7
SAXS de filmes finos homogêneos de a-SiC:H
SAXS de filmes finos homogêneos de a-SiC:H
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

SAXS de filmes finos homogêneos de a-SiC:H

Rogerio Junqueira Prado Márcia Carvalho de Abreu Fantini; Inés Pereyra 1947-; Reunião Anual de Usuários do Laboratório Nacional de Luz Síncrotron-LNLS (10. 2000 Campinas)

Resumos de Trabalhos Campinas : LNLS, 2000

Campinas LNLS 2000

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8
Xanes characterization in PECVD-SiOxNy films
Xanes characterization in PECVD-SiOxNy films
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Xanes characterization in PECVD-SiOxNy films

Denise Criado Marco Isaías Alayo Chávez 1971-; Inés Pereyra 1947-; Márcia Carvalho de Abreu Fantini; Encontro da SBPMat (3. 2004 Foz do Iguaçu)

Program São Carlos: SBPMat, 2004

São Carlos SBPMat 2004

Acesso online

9
Study of silicon oxynitride films with low mechanical stress
Study of silicon oxynitride films with low mechanical stress
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Study of silicon oxynitride films with low mechanical stress

Denise Criado Marco Isaías Alayo Chávez 1971-; Inés Pereyra 1947-; Márcia Carvalho de Abreu Fantini; Encontro da SBPMat (3. 2004 Foz do Iguaçu)

Program São Carlos: SBPMat, 2004

São Carlos SBPMat 2004

Acesso online

10
Comparison of the structural properties of the PECVD SIOXNY dielectric layer with the interface electrical properties in SI/SIOXNY/AL capacitors
Comparison of the structural properties of the PECVD SIOXNY dielectric layer with the interface electrical properties in SI/SIOXNY/AL capacitors
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Comparison of the structural properties of the PECVD SIOXNY dielectric layer with the interface electrical properties in SI/SIOXNY/AL capacitors

Katia Franklin Albertin Márcia Carvalho de Abreu Fantini; Inés Pereyra 1947-; Encontro da SBPMat (3. 2004 Foz do Iguaçu)

Program São Carlos: SBPMat, 2004

São Carlos SBPMat 2004

Acesso online

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Deste Autor:

  1. Fantini, M
  2. Pereyra, I
  3. Alayo Chávez, M
  4. Prado, R
  5. Tabacniks, M

Neste Assunto:

  1. Matéria Condensada
  2. Filmes Finos
  3. Difração Por Raios X
  4. Materiais
  5. Espectroscopia De Raio X

  • Realização: ABCD-USP USP   Logos de Redes Sociais: Freepik

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