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Brazilian Journal Of Physics
| Result Number | Material Type | Add to My Shelf Action | Record Details and Options |
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Material Type: Artigo
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Description and characterization of a ECR plasma device developed for thin film depositionJ A S da Matta Ricardo Magnus Osorio Galvao; L Ruchko; Márcia Carvalho de Abreu Fantini; Pedro Kunihiko KiyoharaBrazilian Journal of Physics São Paulo v. 33, n. 1, p. 123-127São Paulo 2003Item não circula. Consulte sua biblioteca.(Acessar) |
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Material Type: Artigo
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Description and characterization of a ECR plasma device developed for thin film depositionJ A S da Matta Ricardo Magnus Osorio Galvao; L Ruchko; Márcia Carvalho de Abreu Fantini; Pedro Kunihiko KiyoharaBrazilian Journal of Physics São Paulo v. 33, n. 1, p. 123-127, 2003São Paulo 2003Item não circula. Consulte sua biblioteca.(Acessar) |
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Material Type: Artigo
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Description and characterization of a ECR plasma device developed for thin film depositionJ A S da Matta Ricardo Magnus Osorio Galvao; L Ruchko; Márcia Carvalho de Abreu Fantini; Pedro Kunihiko KiyoharaBrazilian Journal of Physics São Paulo v. 33, n. 1, p. 123-127São Paulo 2003Item não circula. Consulte sua biblioteca.(Acessar) |
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Material Type: Artigo
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Description and characterization of a ECR plasma device developed for thin film depositionJ A S da Matta Ricardo Magnus Osorio Galvao; L Ruchko; Márcia Carvalho de Abreu Fantini; Pedro Kunihiko KiyoharaBrazilian Journal of Physics São Paulo v. 33, n. 1, p. 123-127, 2003São Paulo 2003Item não circula. Consulte sua biblioteca.(Acessar) |
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Material Type: Artigo
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Description and characterization of a ECR plasma device developed for thin film depositionMatta, J.A.S. da ; Galvão, R.M.O. ; Ruchko, L. ; Fantini, M.C.A. ; Kiyohara, P.K.Brazilian journal of physics, 2003-03, Vol.33 (1), p.123-127 [Periódico revisado por pares]Sociedade Brasileira de FísicaTexto completo disponível |
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