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Refinado por: assunto: Física De Plasmas remover
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1
Amorphous carbon nitride (a-CNx) thin films deposited by ECR plasma reactor
Amorphous carbon nitride (a-CNx) thin films deposited by ECR plasma reactor
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Amorphous carbon nitride (a-CNx) thin films deposited by ECR plasma reactor

J A S da Matta Márcia Carvalho de Abreu Fantini; Ricardo Magnus Osorio Galvao; Encontro Brasileiro de Física dos Plasmas (8. 2005 Niterói)

Resumos São Paulo : Sociedade Brasileira de Física, 2005

São Paulo SBF 2005

Acesso online

2
Desenvolvimento e caracterização de uma fonte de plasma ECR para deposição de filmes finos
Desenvolvimento e caracterização de uma fonte de plasma ECR para deposição de filmes finos
Material Type:
Tese de Doutorado 		Adicionar ao Meu Espaço

Desenvolvimento e caracterização de uma fonte de plasma ECR para deposição de filmes finos

Jose Antonio Sevidanes da Matta Ricardo Magnus Osorio Galvao

2000

Localização: IF - Instituto de Física    (530.44 M435d D Ex.2 )(Acessar)

3
Mapeamento magnetico do tokamak tbr-1
Mapeamento magnetico do tokamak tbr-1
Material Type:
Dissertação de Mestrado 		Adicionar ao Meu Espaço

Mapeamento magnetico do tokamak tbr-1

Jose Antonio Sevidanes da Matta Iberê Luiz Caldas

1994

Localização: IF - Instituto de Física    (530.44 M435m M Ex.2 )(Acessar)

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Description and characterization of a ECR plasma device developed for thin film deposition
Description and characterization of a ECR plasma device developed for thin film deposition
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Description and characterization of a ECR plasma device developed for thin film deposition

J A S da Matta Ricardo Magnus Osorio Galvao; L Ruchko; Márcia Carvalho de Abreu Fantini; Pedro Kunihiko Kiyohara

Brazilian Journal of Physics São Paulo v. 33, n. 1, p. 123-127

São Paulo 2003

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Description and characterization of a ECR plasma device developed for thin film deposition
Description and characterization of a ECR plasma device developed for thin film deposition
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Description and characterization of a ECR plasma device developed for thin film deposition

J A S da Matta Ricardo Magnus Osorio Galvao; L Ruchko; Márcia Carvalho de Abreu Fantini; Pedro Kunihiko Kiyohara

Brazilian Journal of Physics São Paulo v. 33, n. 1, p. 123-127

São Paulo 2003

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Deste Autor:

  1. Matta, J
  2. Galvao, R
  3. Fantini, M
  4. Ruchko, L
  5. Kiyohara, P

Neste Assunto:

  1. Filmes Finos
  2. Aceleração De Partículas
  3. Tokamaks
  4. Ressonância Magnética Nuclear
  5. Física

  • Realização: ABCD-USP USP   Logos de Redes Sociais: Freepik

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