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Corrosion Inhibitors XXX (1.2). Comparative Studies on the Behaviour of Known and Unknown Corrosion Inhibitors of Copper Using Standard Conditions (Oxygen, NaCl, p H 4.1, 22 deg C)
Corrosion Inhibitors XXX (1.2). Comparative Studies on the Behaviour of Known and Unknown Corrosion Inhibitors of Copper Using Standard Conditions (Oxygen, NaCl, p H 4.1, 22 deg C)
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Corrosion Inhibitors XXX (1.2). Comparative Studies on the Behaviour of Known and Unknown Corrosion Inhibitors of Copper Using Standard Conditions (Oxygen, NaCl, p H 4.1, 22 deg C)

Horner, L ; Pliefke, E

Materials and corrosion, 1985-12, Vol.36 (12), p.545-553 [Periódico revisado por pares]

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2
Quadratic non-linear spectroscopy in Langmuir-Blodgett films of charge-transfer diazostilbenes and polyenes
Quadratic non-linear spectroscopy in Langmuir-Blodgett films of charge-transfer diazostilbenes and polyenes
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Quadratic non-linear spectroscopy in Langmuir-Blodgett films of charge-transfer diazostilbenes and polyenes

Kajzar, F ; Ledoux, I

Thin solid films, 1989-11, Vol.179 (1), p.359-367 [Periódico revisado por pares]

Lausanne: Elsevier B.V

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3
A Comparison of the Wall Shift of TFE and FEP Teflon Coatings in the Hydrogen Maser
A Comparison of the Wall Shift of TFE and FEP Teflon Coatings in the Hydrogen Maser
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A Comparison of the Wall Shift of TFE and FEP Teflon Coatings in the Hydrogen Maser

Vanier, Jacques ; Larouche, Robert

Metrologia, 1978-01, Vol.14 (1), p.31-37 [Periódico revisado por pares]

IOP Publishing

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4
Growth and characterization of silicon nitride films produced by remote microwave plasma chemical vapor deposition
Growth and characterization of silicon nitride films produced by remote microwave plasma chemical vapor deposition
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Growth and characterization of silicon nitride films produced by remote microwave plasma chemical vapor deposition

Landheer, D. ; Skinner, N. G. ; Jackman, T. E. ; Thompson, D. A. ; Simmons, J. G. ; Stevanovic, D. V. ; Khatamian, D.

Journal of vacuum science & technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 1991-09, Vol.9 (5), p.2594-2601 [Periódico revisado por pares]

Melville, NY: American Institute of Physics

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5
Determining metal–semiconductor interface structure by optical second‐harmonic generation
Determining metal–semiconductor interface structure by optical second‐harmonic generation
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Determining metal–semiconductor interface structure by optical second‐harmonic generation

McGilp, J. F.

Journal of vacuum science & technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 1987-07, Vol.5 (4), p.1442-1446 [Periódico revisado por pares]

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6
Partial pressure control of reactively sputtered titanium nitride
Partial pressure control of reactively sputtered titanium nitride
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Partial pressure control of reactively sputtered titanium nitride

Hmiel, A. F.

Journal of vacuum science & technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 1985-05, Vol.3 (3), p.592-595 [Periódico revisado por pares]

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7
1.06 Micron Laser Damage of Thin Film Optical Coatings — a Round Robin Experiment Involving Various Pulse Lengths and Beam Diameters
1.06 Micron Laser Damage of Thin Film Optical Coatings — a Round Robin Experiment Involving Various Pulse Lengths and Beam Diameters
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1.06 Micron Laser Damage of Thin Film Optical Coatings — a Round Robin Experiment Involving Various Pulse Lengths and Beam Diameters

Guenther, KH ; Humpherys, TW ; Balmer, J ; Bettis, JR ; Casparis, E ; Ebert, J ; Eichner, M ; Guenther, AH ; Kiesel, E ; Kuehnel, R ; Milam, D ; Ryseck, W ; Seitel, SC ; Stewart, A ; Weber, H ; Weber, HP ; Wirtenson, G ; Wood, RM

Laser Induced Damage In Optical Materials: 1983, 1985, p.241-267 [Periódico revisado por pares]

100 Barr Harbor Drive, PO Box C700, West Conshohocken, PA 19428-2959: ASTM International

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8
Evaluation of Wear‐Resistant Chrome Oxide and Plasma‐Spray Coatings
Evaluation of Wear‐Resistant Chrome Oxide and Plasma‐Spray Coatings
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Evaluation of Wear‐Resistant Chrome Oxide and Plasma‐Spray Coatings

Yonushonis, T. M ; Wolter, G. W Smothers, William

Proceedings of the 9th Annual Conference on Composites and Advanced Ceramic Materials: Ceramic Engineering and Science Proceedings, 1985, p.1067-1076

Hoboken, NJ, USA: John Wiley & Sons, Inc

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9
Annealing response of disordered sputter deposited vanadium pentoxide (V2O5)
Annealing response of disordered sputter deposited vanadium pentoxide (V2O5)
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Annealing response of disordered sputter deposited vanadium pentoxide (V2O5)

Luksich, John ; Aita, Carolyn Rubin

Journal of vacuum science & technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 1991-05, Vol.9 (3), p.542-546 [Periódico revisado por pares]

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10
Mass flow measurement and control of low vapor pressure sources
Mass flow measurement and control of low vapor pressure sources
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Mass flow measurement and control of low vapor pressure sources

Sullivan, J. J. ; Schaffer, S. ; Jacobs, R. P.

Journal of vacuum science & technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 1989-05, Vol.7 (3), p.2387-2392 [Periódico revisado por pares]

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