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1
Self-Assembled Monolayers of Alkylphosphonic Acid on GaN Substrates
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Self-Assembled Monolayers of Alkylphosphonic Acid on GaN Substrates

Ito, Takashi ; Forman, Sarah M ; Cao, Chundi ; Li, Feng ; Eddy, Charles R ; Mastro, Michael A ; Holm, Ronald T ; Henry, Richard L ; Hohn, Keith L ; Edgar, J. H

Langmuir, 2008-07, Vol.24 (13), p.6630-6635 [Periódico revisado por pares]

Washington, DC: American Chemical Society

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2
Etch rates near hot-wall CVD growth temperature for Si-face 4H-SiC using H2 and C3H8
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Etch rates near hot-wall CVD growth temperature for Si-face 4H-SiC using H2 and C3H8

VANMIL, B. L ; LEW, K.-K ; MYERS-WARD, R. L ; HOLM, R. T ; GASKILL, D. K ; EDDY, C. R ; WANG, L ; ZHAO, P

Journal of crystal growth, 2009, Vol.311 (2), p.238-243 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier

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3
Investigation of three-step epilayer growth approach of GaN films to minimize compensation
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Investigation of three-step epilayer growth approach of GaN films to minimize compensation

EDDY, C. R ; HOLM, R. T ; HENRY, R. L ; CULBERTSON, J. C ; TWIGG, M. E

Journal of electronic materials, 2005-09, Vol.34 (9), p.1187-1192 [Periódico revisado por pares]

New York, NY: Institute of Electrical and Electronics Engineers

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4
MOCVD growth of thick AlN and AlGaN superlattice structures on Si substrates
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MOCVD growth of thick AlN and AlGaN superlattice structures on Si substrates

Mastro, M.A. ; Eddy, C.R. ; Gaskill, D.K. ; Bassim, N.D. ; Casey, J. ; Rosenberg, A. ; Holm, R.T. ; Henry, R.L. ; Twigg, M.E.

Journal of crystal growth, 2006-01, Vol.287 (2), p.610-614 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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5
Diffraction Contrast of Threading Dislocations in GaN and 4H-SiC Epitaxial Layers Using Electron Channeling Contrast Imaging
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Diffraction Contrast of Threading Dislocations in GaN and 4H-SiC Epitaxial Layers Using Electron Channeling Contrast Imaging

Twigg, M. E. ; Picard, Y. N. ; Caldwell, J. D. ; Eddy, C. R. ; Mastro, M. A. ; Holm, R. T. ; Neudeck, P. G. ; Trunek, A. J. ; Powell, J. A.

Journal of electronic materials, 2010-06, Vol.39 (6), p.743-746 [Periódico revisado por pares]

Boston: Springer US

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6
Characteristics of in situ Mg-doped GaN epilayers subjected to ultra-high-temperature microwave annealing using protective caps
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Characteristics of in situ Mg-doped GaN epilayers subjected to ultra-high-temperature microwave annealing using protective caps

Sundaresan, Siddarth G ; Murthy, Madhu ; Rao, Mulpuri V ; Schreifels, John A ; Mastro, M A ; Eddy, Charles R ; Holm, R T ; Henry, R L ; Freitas, Jaime A ; Gomar-Nadal, Elba ; Vispute, R D ; Tian, Yong-Lai

Semiconductor science and technology, 2007-10, Vol.22 (10), p.1151-1156 [Periódico revisado por pares]

Bristol: IOP Publishing

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7
Experimental study of plasmonically enhanced GaN nanowire light emitters
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Experimental study of plasmonically enhanced GaN nanowire light emitters

Mastro, Michael A. ; Freitas Jr, Jaime A. ; Twigg, Mark ; Holm, R. T. ; Eddy Jr, Charles R. ; Kub, Fritz ; Kim, Hong-Yeol ; Ahn, Jaehui ; Kim, Jihyun

Physica status solidi. A, Applications and materials science, 2008-02, Vol.205 (2), p.378-382 [Periódico revisado por pares]

Berlin: WILEY-VCH Verlag

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8
Rare-earth chloride seeded growth of GaN nano- and micro-crystals
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Rare-earth chloride seeded growth of GaN nano- and micro-crystals

Mastro, M.A. ; Freitas, J.A. ; Holm, R.T. ; Eddy, C.R. ; Caldwell, J. ; Liu, K. ; Glembocki, O. ; Henry, R.L. ; Kim, J.

Applied surface science, 2007-05, Vol.253 (14), p.6157-6161 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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9
Real loci of symplectic reductions
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Real loci of symplectic reductions

Goldin, R. F. ; Holm, T. S.

Transactions of the American Mathematical Society, 2004-11, Vol.356 (11), p.4623-4642 [Periódico revisado por pares]

Providence, RI: American Mathematical Society

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10
Oxidation-reduction capacities of aquifer solids
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Oxidation-reduction capacities of aquifer solids

Barcelona, Michael J ; Holm, Thomas R

Environmental science & technology, 1991-09, Vol.25 (9), p.1565-1572 [Periódico revisado por pares]

Washington, DC: American Chemical Society

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