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Band Gap Tuning in Nanoporous TiO 2 -ZrO 2 Hybrid Thin Films
Band Gap Tuning in Nanoporous TiO 2 -ZrO 2 Hybrid Thin Films
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Band Gap Tuning in Nanoporous TiO 2 -ZrO 2 Hybrid Thin Films

Kim, Chang-Sik ; Jeong, Hyun-Dam

Bulletin of the Korean Chemical Society, 2007, Vol.28 (12), p.2333-2337 [Periódico revisado por pares]

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Bioinspired Fabrication of Silica Thin Films on Histidine-Terminated Self-Assembled Monolayers
Bioinspired Fabrication of Silica Thin Films on Histidine-Terminated Self-Assembled Monolayers
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Bioinspired Fabrication of Silica Thin Films on Histidine-Terminated Self-Assembled Monolayers

Park, Ji Hun ; Lee, Juno ; Choi, Insung S ; Yang, Sung Ho

Bulletin of the Korean Chemical Society, 2014, Vol.35 (11), p.3336-3338 [Periódico revisado por pares]

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Carrier Gas Assisted Solvent Vapor Treatment for Surface Nanostructuring of Molecular Thin Films
Carrier Gas Assisted Solvent Vapor Treatment for Surface Nanostructuring of Molecular Thin Films
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Carrier Gas Assisted Solvent Vapor Treatment for Surface Nanostructuring of Molecular Thin Films

Gong, Hye-Jin ; Kim, Jin-Hyun ; Yim, Sang-Gyu

Bulletin of the Korean Chemical Society, 2012, Vol.33 (3), p.825-827 [Periódico revisado por pares]

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CdSe Thin Films Grown by MOCVD Method Using New Single-source Precursors
CdSe Thin Films Grown by MOCVD Method Using New Single-source Precursors
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CdSe Thin Films Grown by MOCVD Method Using New Single-source Precursors

Chae, Dong-Yock ; Seo, Kook-Won ; Lee, Seung-Soo ; Yoon, Seok-Hwan ; Shim, Il-Wun

Bulletin of the Korean Chemical Society, 2006, Vol.27 (5), p.762-764 [Periódico revisado por pares]

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Chain Length Effect of Dialkoxynaphthalene End-Capped Divinylbenzene for OTFT
Chain Length Effect of Dialkoxynaphthalene End-Capped Divinylbenzene for OTFT
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Chain Length Effect of Dialkoxynaphthalene End-Capped Divinylbenzene for OTFT

Kim, Ran ; Yun, Hui-Jun ; Yi, Mi-Hye ; Shin, Sung-Chul ; Kwon, Soon-Ki ; Kim, Yun-Hi

Bulletin of the Korean Chemical Society, 2012, Vol.33 (2), p.420-425 [Periódico revisado por pares]

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Channel Protection Layer Effect on the Performance of Oxide TFTs
Channel Protection Layer Effect on the Performance of Oxide TFTs
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Channel Protection Layer Effect on the Performance of Oxide TFTs

KoPark, Sang-Hee ; Cho, Doo-Hee ; Hwang, Chi-Sun ; Yang, Shin-Hyuk ; Ryu, Min-Ki ; Byun, Chun-Won ; Yoon, Sung-Min ; Cheong, Woo-Seok ; Cho, Kyoung-Ik ; Jeon, Jae-Hong

ETRI journal, 2009-02, Vol.31 (6), p.653-659 [Periódico revisado por pares]

한국전자통신연구원

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Characteristic of Organic Thin Film Depending on Carbon Content by Fourier Transform Infrared Spectra and X-ray Diffraction Pattern
Characteristic of Organic Thin Film Depending on Carbon Content by Fourier Transform Infrared Spectra and X-ray Diffraction Pattern
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Characteristic of Organic Thin Film Depending on Carbon Content by Fourier Transform Infrared Spectra and X-ray Diffraction Pattern

Oh, Teresa

Bulletin of the Korean Chemical Society, 2007, Vol.28 (9), p.1588-1590 [Periódico revisado por pares]

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Chemical Vapor Deposition of Ga 2 O 3 Thin Films on Si Substrates
Chemical Vapor Deposition of Ga 2 O 3 Thin Films on Si Substrates
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Chemical Vapor Deposition of Ga 2 O 3 Thin Films on Si Substrates

Kim, Doo-Hyun ; Yoo, Seung-Ho ; Chung, Taek-Mo ; An, Ki-Seok ; Yoo, Hee-Soo ; Kim, Yun-Soo

Bulletin of the Korean Chemical Society, 2002, Vol.23 (2), p.225-228 [Periódico revisado por pares]

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Chemical Vapor Deposition of Ga2O3 Thin Films on Si Substrates
Chemical Vapor Deposition of Ga2O3 Thin Films on Si Substrates
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Chemical Vapor Deposition of Ga2O3 Thin Films on Si Substrates

DooHyunKim ; SeungHoYoo ; Taek-MoChung ; Ki-SeokAn ; Hee-SooYoo ; YunsooKim

Bulletin of the Korean Chemical Society, 2002, 23(2), , pp.11-228 [Periódico revisado por pares]

대한화학회

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Chemical Vapor Deposition of β-LiGaO 2 Films on Si(100) Using a Novel Single Precursor
Chemical Vapor Deposition of β-LiGaO 2 Films on Si(100) Using a Novel Single Precursor
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Chemical Vapor Deposition of β-LiGaO 2 Films on Si(100) Using a Novel Single Precursor

Sung, Myung M ; Kim, Chang G ; Kim, Yun-Soo

Bulletin of the Korean Chemical Society, 2004, Vol.25 (4), p.480-484 [Periódico revisado por pares]

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