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0.1-μm high-aspect-ratio pattern replication and linewidth control
0.1-μm high-aspect-ratio pattern replication and linewidth control
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0.1-μm high-aspect-ratio pattern replication and linewidth control

Chen, Zheng ; Vladimirsky, Yuli ; Cerrina, Franco ; Lai, Barry P ; Yun, Wenbing ; Gluskin, Efim S

SPIE proceedings series, 1998, Vol.3331, p.591-600

Bellingham WA: SPIE

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12
0.1-μm high performance double heterojunction In0.32Al0.68As/In0.33Ga0.67As metamorphic HEMTs on GaAs
0.1-μm high performance double heterojunction In0.32Al0.68As/In0.33Ga0.67As metamorphic HEMTs on GaAs
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0.1-μm high performance double heterojunction In0.32Al0.68As/In0.33Ga0.67As metamorphic HEMTs on GaAs

Zaknoune, M ; Cordier, Y ; Bollaert, S ; Ferre, D ; Théron, D ; Crosnier, Y

Solid-state electronics, 2000-09, Vol.44 (9), p.1685-1688 [Periódico revisado por pares]

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13
0.1-μm InAlAs/InGaAs HEMTS with an InP-recess-etch stopper grown by MOCVD
0.1-μm InAlAs/InGaAs HEMTS with an InP-recess-etch stopper grown by MOCVD
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Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

0.1-μm InAlAs/InGaAs HEMTS with an InP-recess-etch stopper grown by MOCVD

Enoki, Takatomo ; Ito, Hiroshi ; Ikuta, Kenji ; Umeda, Yohtaro ; Ishii, Yasunobu

Microwave and optical technology letters, 1996-02, Vol.11 (3), p.135-139 [Periódico revisado por pares]

New York: Wiley Subscription Services, Inc., A Wiley Company

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14
0.1 μm InGaAs/InAlAs/InP HEMT MMICs: a flight qualified technology
0.1 μm InGaAs/InAlAs/InP HEMT MMICs: a flight qualified technology
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Ata de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

0.1 μm InGaAs/InAlAs/InP HEMT MMICs: a flight qualified technology

CHOU, Y. C ; LEUNG, D ; LAI, R ; GRUNDBACHER, R ; BARSKY, M ; KAN, Q ; TSAI, R

Technical digest - IEEE Gallium Arsenide Integrated Circuit Symposium, 2002, p.77-80

Piscataway NJ: IEEE

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15
0.1 μm RFCMOS on high resistivity substrates for system on chip (SOC) applications
0.1 μm RFCMOS on high resistivity substrates for system on chip (SOC) applications
Material Type:
Ata de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

0.1 μm RFCMOS on high resistivity substrates for system on chip (SOC) applications

YANG, J.-Y ; BENAISSA, K ; ASHBURN, S ; MADHANI, P ; BLYTHE, T ; SHICHIJO, H ; CRENSHAW, D ; WILLIAMS, B ; SRIDHAR, S ; AI, J ; BOSELLI, G ; ZHAO, S ; TANG, S.-P ; MAHALINGAM, N

Piscataway NJ: IEEE 2002

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16
0.11-2.5 GHz All-digital DLL for Mobile Memory Interface with Phase Sampling Window Adaptation to Reduce Jitter Accumulation
0.11-2.5 GHz All-digital DLL for Mobile Memory Interface with Phase Sampling Window Adaptation to Reduce Jitter Accumulation
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0.11-2.5 GHz All-digital DLL for Mobile Memory Interface with Phase Sampling Window Adaptation to Reduce Jitter Accumulation

채주형 ; 김민오 ; 홍기문 ; 박지환 ; 고형준 ; 신우열 ; 지한규 ; 정덕균 ; 김수환

JOURNAL OF SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY AND SCIENCE, 2017, 17(3), 75, pp.411-424

대한전자공학회

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17
0.11-μm imaging in KrF lithography using dipole illumination
0.11-μm imaging in KrF lithography using dipole illumination
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Ata de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

0.11-μm imaging in KrF lithography using dipole illumination

Eurlings, Mark ; van Setten, Eelco ; Torres, Juan Andres ; Dusa, Mircea V ; Socha, Robert J ; Capodieci, Luigi ; Finders, Jo

SPIE proceedings series, 2001, Vol.4404, p.266-278

Bellingham WA: SPIE

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18
0.12 μm optical lithography performances using an alternating DUV phase shift mask
0.12 μm optical lithography performances using an alternating DUV phase shift mask
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Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

0.12 μm optical lithography performances using an alternating DUV phase shift mask

Trouiller, Y. ; Buffet, N. ; Mourier, T. ; Schiavone, P. ; Quere, Y.

Microelectronic engineering, 1998-03, Vol.41, p.61-64 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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19
0.13 μm CMOS Cartesian loop transmitter IC with fast calibration and switching scheme from opened to closed loop
0.13 μm CMOS Cartesian loop transmitter IC with fast calibration and switching scheme from opened to closed loop
Material Type:
Ata de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

0.13 μm CMOS Cartesian loop transmitter IC with fast calibration and switching scheme from opened to closed loop

Otaka, S. ; Hosoya, M. ; Ishihara, H. ; Hashimoto, T. ; Araki, Y.

ESSCIRC 2008 - 34th European Solid-State Circuits Conference, 2008, p.342-345

IEEE

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20
0.13-μM CMOS Q-band leveled-LO subharmonic mixer with injection-locked frequency-divider quadrature generator
0.13-μM CMOS Q-band leveled-LO subharmonic mixer with injection-locked frequency-divider quadrature generator
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Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

0.13-μM CMOS Q-band leveled-LO subharmonic mixer with injection-locked frequency-divider quadrature generator

Su, Jen-Yi ; Meng, Chinchun ; Wu, Po-Yi ; Huang, Guo-Wei

Microwave and optical technology letters, 2009-11, Vol.51 (11), p.2663-2665 [Periódico revisado por pares]

Hoboken: Wiley Subscription Services, Inc., A Wiley Company

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