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0.10 μm TiSi2 technology utilizing nitrogen diffusion controlled RTA
0.10 μm TiSi2 technology utilizing nitrogen diffusion controlled RTA
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Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

0.10 μm TiSi2 technology utilizing nitrogen diffusion controlled RTA

MATSUBARA, Y ; SAKAI, T ; ISHIGAMI, T ; ANDO, K ; HORIUCHI, T

Thin solid films, 1995-12, Vol.270 (1-2), p.537-543 [Periódico revisado por pares]

Lausanne: Elsevier Science

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12
0.12 micron logic process using a 248 nm step-and-scan system
0.12 micron logic process using a 248 nm step-and-scan system
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Ata de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

0.12 micron logic process using a 248 nm step-and-scan system

BAKER, Dan ; ZHENG, Tammy ; TAKEMOTO, Cliff ; SETHI, Satyendra ; GABRIEL, Calvin ; SCOTT, Greg

SPIE proceedings series, 2000, p.294-304

Bellingham WA: SPIE

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13
0.15 μm gate length MHEMT technology for 77GHz automotive radar applications
0.15 μm gate length MHEMT technology for 77GHz automotive radar applications
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Ata de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

0.15 μm gate length MHEMT technology for 77GHz automotive radar applications

JIN HEE LEE ; HYUNG SUP YOON ; JAE YEOB SHIM ; JU YEON HONG ; DONG MIN KANG ; HAE CHEON KIM ; KYUNG IK CHO ; KYUNG HO LEE ; BOO WOO KIM

Piscataway NJ: IEEE 2004

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14
0.279 nW fourth-order filter circuit for biological signal conditioning
0.279 nW fourth-order filter circuit for biological signal conditioning
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

0.279 nW fourth-order filter circuit for biological signal conditioning

Thakur, Diksha ; Sharma, Kulbhushan

AIP advances, 2024-06, Vol.14 (6) [Periódico revisado por pares]

Melville: American Institute of Physics

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15
0.3–3 GHz magneto-dielectric properties of nanostructured NiZnCo ferrite from hydrothermal process
0.3–3 GHz magneto-dielectric properties of nanostructured NiZnCo ferrite from hydrothermal process
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

0.3–3 GHz magneto-dielectric properties of nanostructured NiZnCo ferrite from hydrothermal process

Shen, Xiang ; Wang, Yanxin ; Yang, Xiang ; Lu, Liqiang ; Huang, Liang

Journal of materials science. Materials in electronics, 2010-06, Vol.21 (6), p.630-634 [Periódico revisado por pares]

Boston: Springer US

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16
0.30k1 CH delineation with novel image reversal materials
0.30k1 CH delineation with novel image reversal materials
Material Type:
Ata de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

0.30k1 CH delineation with novel image reversal materials

Hatakeyama, J ; Katayama, K ; Yoshihara, T ; Kawai, Y ; Ishihara, T

Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering, 2009, Vol.7273, p.72730L-72730L-9

Bellingham, Wash: SPIE

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17
0.35 μm CMOS–MEMS low-mechanical-noise micro accelerometer
0.35 μm CMOS–MEMS low-mechanical-noise micro accelerometer
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

0.35 μm CMOS–MEMS low-mechanical-noise micro accelerometer

Chen, Ja-Hao ; Huang, Chih-Wei

Microsystem technologies : sensors, actuators, systems integration, 2018, Vol.24 (1), p.299-304 [Periódico revisado por pares]

Berlin/Heidelberg: Springer Berlin Heidelberg

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18
0.4% absolute efficiency gain by novel back contact
0.4% absolute efficiency gain by novel back contact
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Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

0.4% absolute efficiency gain by novel back contact

Ehling, C. ; Schubert, M.B. ; Merz, R. ; Müller, J. ; Hlusiak, M. ; Rostan, P.J. ; Werner, J.H.

Solar energy materials and solar cells, 2009-06, Vol.93 (6), p.707-709 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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19
0.4% absolute efficiency increase for inline-diffused screen-printed multicrystalline silicon wafer solar cells by non-acidic deep emitter etch-back
0.4% absolute efficiency increase for inline-diffused screen-printed multicrystalline silicon wafer solar cells by non-acidic deep emitter etch-back
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

0.4% absolute efficiency increase for inline-diffused screen-printed multicrystalline silicon wafer solar cells by non-acidic deep emitter etch-back

Basu, Prabir Kanti ; Law, Felix ; Vinodh, Shanmugam ; Kumar, Avishek ; Richter, Paul ; Bottari, Frank ; Hoex, Bram

Solar energy materials and solar cells, 2015-06, Vol.137, p.193-201 [Periódico revisado por pares]

Elsevier B.V

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20
0.4 and 0.7 conductance anomalies in quantum point contacts
0.4 and 0.7 conductance anomalies in quantum point contacts
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0.4 and 0.7 conductance anomalies in quantum point contacts

Bychkov, A M ; Stace, T M

Nanotechnology, 2007-05, Vol.18 (18), p.185403-185403 (5) [Periódico revisado por pares]

IOP Publishing

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