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Journal Of Vacuum Science & Technology. A, Vacuum, Surfaces, And Films

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11	Material Type: Artículo		Equilibrium surface hydrogen coverage during silicon epitaxy using SiH4 Liehr, M. ; Greenlief, C. M. ; Offenberg, M. ; Kasi, S. R. Journal of vacuum science & technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 1990-05, Vol.8 (3), p.2960-2964 [Revista revisada por pares] Texto completo disponible Recurso en línea Detalles Comentarios y Etiquetas Servicios adicionales Veces citado Citas Citado por
12	Material Type: Artículo		Ru3(CO)12 and Mo (CO)6 overlayers adsorbed on Ru(001) and Au/Ru and their interaction with electrons and photons: An infrared reflection–absorption study Malik, Igor J. ; Hrbek, Jan Journal of vacuum science & technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 1991-05, Vol.9 (3), p.1737-1741 [Revista revisada por pares] Texto completo disponible Recurso en línea Detalles Comentarios y Etiquetas Servicios adicionales Veces citado Citas Citado por
13	Material Type: Artículo		Molecular beam studies of adsorption dynamics Arumainayagam, Christopher R. ; McMaster, Mark C. ; Madix, Robert J. Journal of vacuum science & technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 1991-05, Vol.9 (3), p.1581-1588 [Revista revisada por pares] United States Texto completo disponible Recurso en línea Detalles Comentarios y Etiquetas Servicios adicionales Veces citado Citas Citado por
14	Material Type: Artículo		Coadsorption‐induced effects at surfaces: Thermal desorption spectroscopy and x‐ray photoelectron spectroscopy study of oxygen compression by Au on Ru(001) Malik, Igor J. ; Hrbek, Jan Journal of vacuum science & technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 1991-05, Vol.9 (3), p.1806-1809 [Revista revisada por pares] United States Texto completo disponible Recurso en línea Detalles Comentarios y Etiquetas Servicios adicionales Veces citado Citas Citado por
15	Material Type: Artículo		Quantitative analysis of deuterium implanted in crystalline silicon and pyrolytic graphite by pulsed XeCl laser desorption Guo, H. Y. ; Ross, G. G. ; Terreault, B. Journal of vacuum science & technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 1992-03, Vol.10 (2), p.368-373 [Revista revisada por pares] WOODBURY: Amer Inst Physics Texto completo disponible Recurso en línea Detalles Comentarios y Etiquetas Servicios adicionales Veces citado Citas Citado por
16	Material Type: Artículo		Adsorption and decomposition of hydrides on Ge(100) Cohen, Stephen M. ; Yang, Yuemei L. ; Rouchouze, Eric ; Jin, Tuo ; D’Evelyn, Mark P. Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, 1992-07, Vol.10 (4), p.2166-2171 [Revista revisada por pares] WOODBURY: Amer Inst Physics Texto completo disponible Recurso en línea Detalles Comentarios y Etiquetas Servicios adicionales Veces citado Citas Citado por
17	Material Type: Artículo		State‐specific study of hydrogen desorption from Si(100)‐(2×1): Comparison of disilane and hydrogen adsorption Shane, S. F. ; Kolasinski, K. W. ; Zare, R. N. Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, 1992-07, Vol.10 (4), p.2287-2291 [Revista revisada por pares] WOODBURY: Amer Inst Physics Texto completo disponible Recurso en línea Detalles Comentarios y Etiquetas Servicios adicionales Veces citado Citas Citado por
18	Material Type: Artículo		Surface reactions of Ge containing organometallics on Si(100) Greenlief, C. Michael ; Wankum, Patricia C. ; Klug, Debra‐Ann ; Keeling, Lori A. Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, 1992-07, Vol.10 (4), p.2465-2469 [Revista revisada por pares] WOODBURY: Amer Inst Physics Texto completo disponible Recurso en línea Detalles Comentarios y Etiquetas Servicios adicionales Veces citado Citas Citado por
19	Material Type: Artículo		Electrophoretic deposition of pure MoS2 dry film lubricant coatings Panitz, Janda K. G. ; Dugger, M. T. ; Peebles, D. E. ; Tallant, D. R. ; Hills, C. R. Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, 1993-07, Vol.11 (4), p.1441-1446 [Revista revisada por pares] Melville, NY: American Institute of Physics Texto completo disponible Recurso en línea Detalles Comentarios y Etiquetas Servicios adicionales Veces citado Citas Citado por
20	Material Type: Artículo		Reflector atomic hydrogen source: A method for producing pure atomic hydrogen in ultrahigh vacuum Bornscheuer, K. H. ; Lucas, S. R. ; Choyke, W. J. ; Partlow, W. D. ; Yates, J. T. Journal of vacuum science & technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 1993-09, Vol.11 (5), p.2822-2826 [Revista revisada por pares] Melville, NY: American Institute of Physics Texto completo disponible Recurso en línea Detalles Comentarios y Etiquetas Servicios adicionales Veces citado Citas Citado por

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