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1
High quality low temperature DPECVD silicon dioxide
High quality low temperature DPECVD silicon dioxide
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Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

High quality low temperature DPECVD silicon dioxide

Inés Pereyra 1947- Marco Isaías Alayo Chávez 1971-

Journal of Non-Crystalline Solids Amsterdam v. 212, n. 2/3, p. 225-231, jun. 1997

Amsterdam 1997

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High quality low temperature DPECVD silicon dioxide
High quality low temperature DPECVD silicon dioxide
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Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

High quality low temperature DPECVD silicon dioxide

Inés Pereyra 1947- Marco Isaías Alayo Chávez 1971-

Journal of Non-Crystalline Solids Amsterdam v. 212, n. 2/3, p. 225-231, jun. 1997

Amsterdam 1997

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Influence of deposition parameters at the structural characteristics of silicon dioxide deposited by pecvd at low temperatures
Influence of deposition parameters at the structural characteristics of silicon dioxide deposited by pecvd at low temperatures
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Influence of deposition parameters at the structural characteristics of silicon dioxide deposited by pecvd at low temperatures

Marco Isaías Alayo Chávez 1971- Inés Pereyra 1947-; Conference of the Brazilian Microeletronics Society (11th 1996 Águas de Lindóia)

Proceedings São Paulo : Sbmicro, 1996

São Paulo Sbmicro 1996

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Deste Autor:

  1. Pereyra, I
  2. Alayo Chávez, M
  3. Conference of the Brazilian Microeletronics Society
  4. Pereyra, I

Neste Assunto:

  1. Circuitos Integrados
  2. Semicondutores

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