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Refinado por: assunto: Eletroquímica remover assunto: Inibidores De Corrosão remover
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Estudo eletroquímico da influência da adição de ftalocianina de cobre em um filme bis-silano sobre aço carbono
Estudo eletroquímico da influência da adição de ftalocianina de cobre em um filme bis-silano sobre aço carbono
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Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Estudo eletroquímico da influência da adição de ftalocianina de cobre em um filme bis-silano sobre aço carbono

Patricia Hatsue Suegama Idalina Vieira Aoki 1955-; Simpósio Brasileiro de Eletroquímica e Eletroanalítica (16. 2007 Águas de Lindóia)

XVI SIBEE : programa, resumos e trabalhos São Paulo : SBQ, 2007

São Paulo SBQ 2007

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Estudo eletroquímico da tetrasulfoftalocianina de cobre(II) como inibidor de corrosão para os aços ABNT 1010 e ASTM A606-2 em meio de HCI 16%
Estudo eletroquímico da tetrasulfoftalocianina de cobre(II) como inibidor de corrosão para os aços ABNT 1010 e ASTM A606-2 em meio de HCI 16%
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Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Estudo eletroquímico da tetrasulfoftalocianina de cobre(II) como inibidor de corrosão para os aços ABNT 1010 e ASTM A606-2 em meio de HCI 16%

Isabel Correia Guedes 1950- Idalina Vieira Aoki 1955-; Conferência sobre Tecnologia de Equipamentos (6 2002 Salvador); Congresso Brasileiro de Corrosão (22.); Congresso Nacional de Ensaios Não Destrutivos (21.); Conferência Internacional Sobre Avaliação de Integridade e Extensão de Vida dos Equipamentos Industriais; Simpósio de Análise Experimental de Tensões (7.); Expo

6 COTEQ ; 22 CONBRASCOR ; XXI CONAEND ; IEV 2002 ; VII SAET ; 2 EXPOEQUIP : anais Salvador : ABRACO/ABENDE/PRONAI, 2002

Salvador ABRACO/ABENDE/PRONAI 2002

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Influence of an organosilane film filled with Ce(IV) and copper phthalocyanine on carbon steel electrochemical behaviour
Influence of an organosilane film filled with Ce(IV) and copper phthalocyanine on carbon steel electrochemical behaviour
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Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Influence of an organosilane film filled with Ce(IV) and copper phthalocyanine on carbon steel electrochemical behaviour

Patricia Hatsue Suegama Assis Vicente Benedetti; Idalina Vieira Aoki 1955-; International Symposium on Electrochemical Impedance Spectroscopy (7 Argelés-Sur-Mer 2007)

EIS 2007 : book of abstracts Toulouse : INP-SAIC INPACT, 2007

Toulouse INP-SAIC INPACT 2007

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Fluorine containing plasma etching surface chemical characterization by coulometric reduction
Fluorine containing plasma etching surface chemical characterization by coulometric reduction
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Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Fluorine containing plasma etching surface chemical characterization by coulometric reduction

Hugo Antonio Vilca-Melendez Ronaldo Ruas; Patrick Bernard Verdonck 1958-; Idalina Vieira Aoki 1955-; Meeting of the International Society of Electrochemistry (54. 2003 São Pedro)

54 th ISE Meeting book of abstracts. São Carlos : ISE, 2003.

São Pedro 2003

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EIS of artificial patina layers on copper and bronze.
EIS of artificial patina layers on copper and bronze.
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Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

EIS of artificial patina layers on copper and bronze.

Hercílio Gomes de Melo 1964- Augusto Camara Neiva 1952-; L Robbiola; V Costa; Rocio del Pilar Bendezú Hernández; R P Goncalves; International Symposium on Electrochemical Impedance Spectroscopy. (6. 2004 Cocoa Bech)

2004 EIS : abstract book. Cocoa Bech : EIS, 2004.

Cocoa Bech EIS 2004

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Characterization by coulometric reduction of surface chemical components formed on copper in fluorine-containing plasmas
Characterization by coulometric reduction of surface chemical components formed on copper in fluorine-containing plasmas
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Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Characterization by coulometric reduction of surface chemical components formed on copper in fluorine-containing plasmas

Hugo Antonio Vilca Meléndez Ronaldo Ruas; Patrick Bernard Verdonck 1958-; Idalina Vieira Aoki 1955-

Electrochemical and Solid State Letters Pennington v. 6, n. 12, p. B55-B58

Pennington 2003

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Characterization by coulometric reduction of surface chemical components formed on copper in fluorine-containing plasmas
Characterization by coulometric reduction of surface chemical components formed on copper in fluorine-containing plasmas
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Characterization by coulometric reduction of surface chemical components formed on copper in fluorine-containing plasmas

Hugo Antonio Vilca Meléndez Ronaldo Ruas; Patrick Bernard Verdonck 1958-; Idalina Vieira Aoki 1955-

Electrochemical and Solid State Letters Pennington v. 6, n. 12, p. B55-B58

Pennington 2003

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Deste Autor:

  1. Aoki, I
  2. Ruas, R
  3. Verdonck, P
  4. Suegama, P
  5. Vilca Meléndez, H

Neste Assunto:

  1. Cobre
  2. Eletroquímica
  3. Inibidores De Corrosão
  4. Metais (Conservação)
  5. Corrosão Atmosférica

  • Realização: ABCD-USP USP   Logos de Redes Sociais: Freepik

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