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Refinado por: Nome da Publicação: Solid-State Electronics remover
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Advantages of different source/drain engineering on scaled UTBOX FDSOI nMOSFETs at high temperature operation
Advantages of different source/drain engineering on scaled UTBOX FDSOI nMOSFETs at high temperature operation
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Advantages of different source/drain engineering on scaled UTBOX FDSOI nMOSFETs at high temperature operation

Talitha Nicoletti Sara Dereste dos Santos; João Antonio Martino 1959-; Marc Aoulaiche; Anabela Veloso; Cor Claeys; Eddy Simoen; Malgorzata Jurczak

Solid-State Electronics v. 91, p. 53-58, Jan 2014

2014

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Deste Autor:

  1. Claeys, C
  2. Santos, S
  3. Jurczak, M
  4. Veloso, A
  5. Martino, J

Neste Assunto:

  1. Microeletrônica
  2. Temperatura

  • Realização: ABCD-USP USP   Logos de Redes Sociais: Freepik

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