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Processamento e caracterização de filmes finos de ligas ternárias de CoCrTa e CoCrPt
Processamento e caracterização de filmes finos de ligas ternárias de CoCrTa e CoCrPt
Material Type:
Dissertação de Mestrado 		Adicionar ao Meu Espaço

Processamento e caracterização de filmes finos de ligas ternárias de CoCrTa e CoCrPt

Schoenmaker, Jeroen

Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP; Universidade de São Paulo; Instituto de Física 2001-03-28

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2
SiC Materials and Devices
SiC Materials and Devices
SiC Materials and Devices
Material Type:
Livro 		Adicionar ao Meu Espaço

SiC Materials and Devices

Robert K. Willardson Yoon Soo Park; Eicke R Weber; R. K Willardson

Elsevier 1998

Acesso online. A biblioteca também possui exemplares impressos.

3
Ionized Physical Vapor Deposition
Ionized Physical Vapor Deposition
Ionized Physical Vapor Deposition
Material Type:
Livro 		Adicionar ao Meu Espaço

Ionized Physical Vapor Deposition

Ronald Powell Jeffrey A Hopwood; Abraham Ulman

Elsevier 2000

Acesso online. A biblioteca também possui exemplares impressos.

4
Magnetism and Structure in Systems of Reduced Dimension
Magnetism and Structure in Systems of Reduced Dimension
Magnetism and Structure in Systems of Reduced Dimension
Material Type:
Livro 		Adicionar ao Meu Espaço

Magnetism and Structure in Systems of Reduced Dimension

Robin F. C. Dieny, Bernard Donath, Markus Fert, Albert Hermsmeier, B.D. Farrow Bernard Dieny; Markus Donath; Albert Fert; B. D Hermsmeier

Springer US 1993

Acesso online. A biblioteca também possui exemplares impressos.

5
Thin films author and subject cumulative index including tables of contents, vols. 1-24
Thin films author and subject cumulative index including tables of contents, vols. 1-24
Material Type:
Livro 		Adicionar ao Meu Espaço

Thin films author and subject cumulative index including tables of contents, vols. 1-24

Janet Perlman

San Diego Academic Press c1998

Localização: IF - Instituto de Física    (MS TF v.25 )(Acessar)

6
PVD for microelectronics sputter deposition applied to semiconductor manufacturing
PVD for microelectronics sputter deposition applied to semiconductor manufacturing
Material Type:
Livro 		Adicionar ao Meu Espaço

PVD for microelectronics sputter deposition applied to semiconductor manufacturing

Ronald A. Powell Stephen M Rossnagel

San Diego Academic Press c1999

Localização: IF - Instituto de Física    (MS TF v.26 )(Acessar)

7
Surfaces, vacuum, and their applications Cancun, Mexico September, 1994
Surfaces, vacuum, and their applications Cancun, Mexico September, 1994
Material Type:
Livro 		Adicionar ao Meu Espaço

Surfaces, vacuum, and their applications Cancun, Mexico September, 1994

Isaac Hernández-Calderón; René Asomoza; American Institute of Physics; Latin American Congress on Surface Science and its Applications (8th 1994 Cancún, Mexico)

Woodbury, N.Y. AIP Press c1996

Localização: IF - Instituto de Física    (MS AIP v.378 )(Acessar)

8
X-ray scattering from soft-matter thin films materials science and basic research
X-ray scattering from soft-matter thin films materials science and basic research
Material Type:
Livro 		Adicionar ao Meu Espaço

X-ray scattering from soft-matter thin films materials science and basic research

Metin Tolan 1965-

Berlin Springer New York c1999

Localização: FFCLRP - Fac. Fil. Ciên. Let. de R. Preto    (537.531 T647x )(Acessar)

9
Superconductivity and its applications, Buffalo, NY, 1990
Superconductivity and its applications, Buffalo, NY, 1990
Material Type:
Livro 		Adicionar ao Meu Espaço

Superconductivity and its applications, Buffalo, NY, 1990

Yi-Han Kao 1931-; Philip Coppens; Hoi S Kwok; New York State Institute on Superconductivity; Conference on Superconductivity and Applications (4th 1990 Buffalo, N.Y.)

New York American Institute of Physics 1991

Localização: FFCLRP - Fac. Fil. Ciên. Let. de R. Preto    (53 K16s 16012 )(Acessar)

10
Ferroelectric thin films basic properties and device physics for memory applications
Ferroelectric thin films basic properties and device physics for memory applications
Material Type:
Livro 		Adicionar ao Meu Espaço

Ferroelectric thin films basic properties and device physics for memory applications

Masanori Okuyama 1946; Yoshihiro Ishibashi

Berlin Springer New York c2005

Localização: IFSC - Inst. Física de São Carlos    (530 T674 v.98 )(Acessar)

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