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Low resistivity indium–tin oxide transparent conductive films. II. Effect of sputtering voltage on electrical property of films
Low resistivity indium–tin oxide transparent conductive films. II. Effect of sputtering voltage on electrical property of films
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Low resistivity indium–tin oxide transparent conductive films. II. Effect of sputtering voltage on electrical property of films

Ishibashi, S. ; Higuchi, Y. ; Ota, Y. ; Nakamura, K.

Journal of vacuum science & technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 1990-05, Vol.8 (3), p.1403-1406 [Periódico revisado por pares]

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Infrared spectroscopy of Si(111) and Si(100) surfaces after HF treatment: Hydrogen termination and surface morphology
Infrared spectroscopy of Si(111) and Si(100) surfaces after HF treatment: Hydrogen termination and surface morphology
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Infrared spectroscopy of Si(111) and Si(100) surfaces after HF treatment: Hydrogen termination and surface morphology

Chabal, Y. J. ; Higashi, G. S. ; Raghavachari, K. ; Burrows, V. A.

Journal of vacuum science & technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 1989-05, Vol.7 (3), p.2104-2109 [Periódico revisado por pares]

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Comparison of hydrogen desorption kinetics from Si(111)7 × 7 and Si(100)2 × 1
Comparison of hydrogen desorption kinetics from Si(111)7 × 7 and Si(100)2 × 1
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Comparison of hydrogen desorption kinetics from Si(111)7 × 7 and Si(100)2 × 1

Wise, M.L. ; Koehler, B.G. ; Gupta, P. ; Coon, P.A. ; George, S.M.

Surface science, 1991-11, Vol.258 (1), p.166-176 [Periódico revisado por pares]

Lausanne: Elsevier B.V

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4
Thermal desorption analysis: Comparative test of ten commonly applied procedures
Thermal desorption analysis: Comparative test of ten commonly applied procedures
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Thermal desorption analysis: Comparative test of ten commonly applied procedures

de Jong, A.M. ; Niemantsverdriet, J.W.

Surface science, 1990-07, Vol.233 (3), p.355-365 [Periódico revisado por pares]

Lausanne: Elsevier B.V

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5
Raman scattering characterization of carbon bonding in diamond and diamondlike thin films
Raman scattering characterization of carbon bonding in diamond and diamondlike thin films
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Raman scattering characterization of carbon bonding in diamond and diamondlike thin films

Nemanich, R. J. ; Glass, J. T. ; Lucovsky, G. ; Shroder, R. E.

Journal of vacuum science & technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 1988-05, Vol.6 (3), p.1783-1787 [Periódico revisado por pares]

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6
Investigations of the  O 2 Reduction Reaction at the Platinum/Nafion® Interface Using a Solid‐State Electrochemical Cell
Investigations of the  O 2 Reduction Reaction at the Platinum/Nafion® Interface Using a Solid‐State Electrochemical Cell
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Investigations of the  O 2 Reduction Reaction at the Platinum/Nafion® Interface Using a Solid‐State Electrochemical Cell

Parthasarathy, Arvind ; Martin, Charles R. ; Srinivasan, Supramaniam

Journal of the Electrochemical Society, 1991-04, Vol.138 (4), p.916-921 [Periódico revisado por pares]

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7
CH4 dissociation on metals: a quantum dynamics model
CH4 dissociation on metals: a quantum dynamics model
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CH4 dissociation on metals: a quantum dynamics model

Luntz, A.C. ; Harris, J.

Surface science, 1991-11, Vol.258 (1-3), p.397-426 [Periódico revisado por pares]

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8
Corrosion Studies of Rapidly Solidified Magnesium Alloys
Corrosion Studies of Rapidly Solidified Magnesium Alloys
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Corrosion Studies of Rapidly Solidified Magnesium Alloys

Makar, G. L. ; Kruger, J.

Journal of the Electrochemical Society, 1990-02, Vol.137 (2), p.414-421 [Periódico revisado por pares]

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9
Gold grown epitaxially on mica: conditions for large area flat faces
Gold grown epitaxially on mica: conditions for large area flat faces
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Gold grown epitaxially on mica: conditions for large area flat faces

DeRose, J.A. ; Thundat, T. ; Nagahara, L.A. ; Lindsay, S.M.

Surface science, 1991-10, Vol.256 (1), p.102-108 [Periódico revisado por pares]

Elsevier B.V

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10
Low resistivity indium–tin oxide transparent conductive films. I. Effect of introducing H2O gas or H2 gas during direct current magnetron sputtering
Low resistivity indium–tin oxide transparent conductive films. I. Effect of introducing H2O gas or H2 gas during direct current magnetron sputtering
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Low resistivity indium–tin oxide transparent conductive films. I. Effect of introducing H2O gas or H2 gas during direct current magnetron sputtering

Ishibashi, S. ; Higuchi, Y. ; Ota, Y. ; Nakamura, K.

Journal of vacuum science & technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 1990-05, Vol.8 (3), p.1399-1402 [Periódico revisado por pares]

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