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1
Aspects of metal etching for interconnect technologies
Aspects of metal etching for interconnect technologies
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Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Aspects of metal etching for interconnect technologies

Patrick Bernard Verdonck 1958- H Meynen; Brazilian Microelectronics School (3rd 1994 Campinas)

Advanced Metallization for Vlsi/ulsi Applications: Proceedings Campinas : Sbmicro/Unicamp, 1994

Campinas Sbmicro/Unicamp 1994

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2
Contamination caused by reactive ion etching plasmas and subsequent cleaning procedures
Contamination caused by reactive ion etching plasmas and subsequent cleaning procedures
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Contamination caused by reactive ion etching plasmas and subsequent cleaning procedures

Patrick Bernard Verdonck 1958- Ronaldo Domingues Mansano 1964-; Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica (9. 1994 Rio de Janeiro)

Anais Rio de Janeiro : Sbmicro/Ufrj, 1994

Rio de Janeiro Sbmicro/Ufrj 1994

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3
Desenvolvimento de um processo de corrosao de aluminio por plasma de cc14+n2
Desenvolvimento de um processo de corrosao de aluminio por plasma de cc14+n2
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Desenvolvimento de um processo de corrosao de aluminio por plasma de cc14+n2

Ronaldo Domingues Mansano 1964- Patrick Bernard Verdonck 1958-; Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica (9. 1994 Rio de Janeiro)

Anais Rio de Janeiro : Sbmicro/Ufrj, 1994

Rio de Janeiro Sbmicro/Ufrj 1994

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4
Actionometry and its applications on polysilicon etching in a magnetically confined reactor
Actionometry and its applications on polysilicon etching in a magnetically confined reactor
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Actionometry and its applications on polysilicon etching in a magnetically confined reactor

Patrick Bernard Verdonck 1958- P Degeyter; Jacobus Willibrordus Swart 1950-; Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica (7. 1992 São Paulo)

Anais São Paulo : Sbmicro/Epusp, 1992

São Paulo Sbmicro/Epusp 1992

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5
Reactive ion etching of 'GA''AS' in cc14-n2 plasmas
Reactive ion etching of 'GA''AS' in cc14-n2 plasmas
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Reactive ion etching of 'GA''AS' in cc14-n2 plasmas

Patrick Bernard Verdonck 1958- Jacobus Willibrordus Swart 1950-; Ronaldo Domingues Mansano 1964-; N Ordonez; Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica (9. 1994 Rio de Janeiro)

Anais Rio de Janeiro : Sbmicro/Ufrj, 1994

Rio de Janeiro Sbmicro/Ufrj 1994

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6
Development of an aluminium plasma etch process with cci4 and n2
Development of an aluminium plasma etch process with cci4 and n2
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Development of an aluminium plasma etch process with cci4 and n2

R M Franzini Patrick Bernard Verdonck 1958-; Congresso Brasileiro de Aplicacoes de Vacuo Na Industria e Na Ciencia (14. 1993 Recife)

Resumos Recife : Ufpe, 1993

Recife Ufpe 1993

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7
Corrosão de tungstenio por plasma
Corrosão de tungstenio por plasma
Material Type:
Tese de Doutorado 		Adicionar ao Meu Espaço

Corrosão de tungstenio por plasma

Verdonck, Patrick Bernard, 1958- Universidade Estadual de Campinas (Unicamp); Swart, Jacobus Willibrordus, 1950-; Universidade Estadual De Campinas. Faculdade De Engenharia Elétrica; Programa De Pós-Graduação Em Engenharia Elétrica; Universidade Estadual De Campinas

https://repositorio.unicamp.br/acervo/detalhe/65277

[s.n.] 1993

Acesso online. A biblioteca também possui exemplares impressos.

8
Laser enhanced polymer etching in different ambients
Laser enhanced polymer etching in different ambients
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Laser enhanced polymer etching in different ambients

Patrick Bernard Verdonck 1958- G Brasseur; F Coopmans

Microelectronic Engineering Amsterdam v. 9, p. 507-510, 1989

Amsterdam 1989

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9
Reactive ion etching and plasma etching of tungsten
Reactive ion etching and plasma etching of tungsten
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Reactive ion etching and plasma etching of tungsten

Patrick Bernard Verdonck 1958- G Brasseur; J Swart

Microelectronic Engineering Amsterdam v. 21, p. 329-332, 1993

Amsterdam 1993

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10
Reactive ion etching and plasma etching of tungsten
Reactive ion etching and plasma etching of tungsten
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Reactive ion etching and plasma etching of tungsten

Patrick Bernard Verdonck 1958- G Brasseur; J Swart

Microelectronic Engineering Amsterdam v. 21, p. 329-332, 1993

Amsterdam 1993

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