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1
Characterization of SF6 plasmas by RF electrical measurements
Characterization of SF6 plasmas by RF electrical measurements
Material Type:
Livro 		Adicionar ao Meu Espaço

Characterization of SF6 plasmas by RF electrical measurements

Marcelo Bento Pisani Patrick Bernard Verdonck 1958-

Morimoto, N.I.; Ribas, P.R.; Verdonck, P.B., eds Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002 Pennington : The Electrochemical Society, 2002

Pennington The Electrochemical Society 2002

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2
RF electrical measurements in plasma processing reactors
RF electrical measurements in plasma processing reactors
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

RF electrical measurements in plasma processing reactors

Marcelo B. Pisani Patrick Bernard Verdonck 1958-; International Conference on Microelectronics and Packaging (15. 2000 Manaus)

SBMicro 2000: proceedings Manaus : SBMicro/UA/UFGRS/UNICAMP/USP, 2000

Manaus SBMicro/UA/UFRGS/UNICAMP/USP 2000

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3
Projeto e caracterizacao de um gerador de baixas frequencias aplicado a corrosao por plasma
Projeto e caracterizacao de um gerador de baixas frequencias aplicado a corrosao por plasma
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Projeto e caracterizacao de um gerador de baixas frequencias aplicado a corrosao por plasma

M B Pisani Ronaldo Domingues Mansano 1964-; Patrick Bernard Verdonck 1958-; Congresso de Aplicacoes de Vacuo Na Industria e Na Ciencia (16. 1995 Brasilia)

Resumos Brasilia : Sbv/Unicamp/Unb, 1995

Brasília Sbv/Unicamp/Unb 1995

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4
Medidas elétricas de RF em reatores de processamento a plasma
Medidas elétricas de RF em reatores de processamento a plasma
Material Type:
Dissertação de Mestrado 		Adicionar ao Meu Espaço

Medidas elétricas de RF em reatores de processamento a plasma

Marcelo Bento Pisani Patrick Bernard Verdonck 1958-

2001

Localização: EPBC - Esc. Politécnica-Bib Central    (FD-2918 ) e outros locais(Acessar)

5
Comparison between single and double Langmuir probe tecniques for analysis of inductively coupled plasmas
Comparison between single and double Langmuir probe tecniques for analysis of inductively coupled plasmas
Material Type:
Relatório Técnico 		Adicionar ao Meu Espaço

Comparison between single and double Langmuir probe tecniques for analysis of inductively coupled plasmas

Giuseppe Antonio Cirino Patrick Bernard Verdonck 1958-; Homero Santiago Maciel; R M Castro; Marcos Massi; M B Pisani; Ronaldo Domingues Mansano 1964-

São Paulo EPUSP 1998

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6
Projeto e construcao de um equipamento para corrosao de aluminio por plasma
Projeto e construcao de um equipamento para corrosao de aluminio por plasma
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Projeto e construcao de um equipamento para corrosao de aluminio por plasma

R M Franzin Patrick Bernard Verdonck 1958-; Ronaldo Domingues Mansano 1964-; M Ordonez; M B Pisani; Congresso Brasileiro de Aplicacoes de Vacuo Na Industria e Na Ciencia (13. 1992 Campinas); Encontro Latino-Americano sobre Plasmas Frios (1. 1992 Campinas)

Resumos Campinas : Unicamp, 1992

Campinas Unicamp 1992

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7
End-point detection of polymer etching using Lagmuir probes
End-point detection of polymer etching using Lagmuir probes
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

End-point detection of polymer etching using Lagmuir probes

Raul Murete de Castro Patrick Bernard Verdonck 1958-; Marcelo B Pisani; Ronaldo Domingues Mansano 1964-; Giuseppe Antonio Cirino; Homero Santiago Maciel; Marcos Massi

IEEE Transactions on Plasma Science New York v. 28, n. 3, p. 1043-1049, Jun. 2000

New York 2000

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8
A comparative study of single and double langmuir probe techniques for RF plasma characterization
A comparative study of single and double langmuir probe techniques for RF plasma characterization
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

A comparative study of single and double langmuir probe techniques for RF plasma characterization

Raul Murete de Castro Giuseppe Antonio Cirino; Patrick Bernard Verdonck 1958-; Homero Santiago Maciel; Marcos Massi; M B Pisani; Ronaldo Domingues Mansano 1964-

Contributions to plasma physics Berlin v.39, n.3, p.235-246, 1999

Berlin 1999

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9
Performance characterization of an RIE reactor with built-in RF excitation antenna
Performance characterization of an RIE reactor with built-in RF excitation antenna
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Performance characterization of an RIE reactor with built-in RF excitation antenna

Marcos Massi Ronaldo Domingues Mansano 1964-; Patrick Bernard Verdonck 1958-; Homero Santiago Maciel; Giuseppe Antonio Cirino; Raul Murete de Castro; Marcelo B Pisani

Solid-State Devices and Circuits São Paulo v. 8, n. 1, p. 1-4, Feb. 2000

São Paulo 2000

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10
A comparative study of single and double langmuir probe techniques for RF plasma characterization
A comparative study of single and double langmuir probe techniques for RF plasma characterization
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

A comparative study of single and double langmuir probe techniques for RF plasma characterization

Raul Murete de Castro Giuseppe Antonio Cirino; Patrick Bernard Verdonck 1958-; Homero Santiago Maciel; Marcos Massi; M B Pisani; Ronaldo Domingues Mansano 1964-

Contributions to plasma physics Berlin v.39, n.3, p.235-246, 1999

Berlin 1999

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  1. Pisani, M
  2. Verdonck, P
  3. Mansano, R
  4. Maciel, H
  5. Cirino, G

Neste Assunto:

  1. Circuitos Integrados
  2. Plasma (Microeletrônica)
  3. Semicondutores
  4. Vácuo
  5. Medidas Elétricas

  • Realização: ABCD-USP USP   Logos de Redes Sociais: Freepik

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