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1
Plasma etching
Plasma etching
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Plasma etching

Patrick Bernard Verdonck 1958- Oficina de Microeletronica (5. 1996 Campinas)

Notas de Aula Campinas : Unicamp, 1996

Campinas Unicamp 1996

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2
Aluminium etching with CC14-N2 plasma
Aluminium etching with CC14-N2 plasma
Material Type:
Relatório Técnico 		Adicionar ao Meu Espaço

Aluminium etching with CC14-N2 plasma

Angela Makie Nakazawa Patrick Bernard Verdonck 1958-

São Paulo EPUSP 1997

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3
Characterization of SF6 plasmas by RF electrical measurements
Characterization of SF6 plasmas by RF electrical measurements
Material Type:
Livro 		Adicionar ao Meu Espaço

Characterization of SF6 plasmas by RF electrical measurements

Marcelo Bento Pisani Patrick Bernard Verdonck 1958-

Morimoto, N.I.; Ribas, P.R.; Verdonck, P.B., eds Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002 Pennington : The Electrochemical Society, 2002

Pennington The Electrochemical Society 2002

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4
Aspects of metal etching for interconnect technologies
Aspects of metal etching for interconnect technologies
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Aspects of metal etching for interconnect technologies

Patrick Bernard Verdonck 1958- H Meynen; Brazilian Microelectronics School (3rd 1994 Campinas)

Advanced Metallization for Vlsi/ulsi Applications: Proceedings Campinas : Sbmicro/Unicamp, 1994

Campinas Sbmicro/Unicamp 1994

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5
Deep trench etching in silicon with fluorine containing plasmas
Deep trench etching in silicon with fluorine containing plasmas
Material Type:
Relatório Técnico 		Adicionar ao Meu Espaço

Deep trench etching in silicon with fluorine containing plasmas

Ronaldo Domingues Mansano 1964- Patrick Bernard Verdonck 1958-; Homero Santiago Maciel

São Paulo EPUSP 1998

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6
Oxygen plasma etching mechanisms of resist
Oxygen plasma etching mechanisms of resist
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Oxygen plasma etching mechanisms of resist

Patrick Bernard Verdonck 1958- International Symposium on Microelectronics Technology and Devices SBMICRO (19. 2004 Porto Galinhas)

Santos, E. J. B.; Ribas, R. P.; Swart, J. eds Microelectronics technology and devices SBMicro 2004. Proceedings, v. 2004-03 Pennington : The Electrochemical Society, 2004

Pennington The Electrochemical Society 2004

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7
Plasma etching of aluminium using Bc13-C12 mixtures. (em CD-Rom)
Plasma etching of aluminium using Bc13-C12 mixtures. (em CD-Rom)
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Plasma etching of aluminium using Bc13-C12 mixtures. (em CD-Rom)

A M Nakazawa Patrick Bernard Verdonck 1958-; Conference of the Brazilian Microelectronics Society (12. 1997 Caxambu)

Proceedings Itajubá : SBMICRO/EFEI, 1997

Itajubá SBMICRO/EFEI 1997

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8
RF electrical measurements in plasma processing reactors
RF electrical measurements in plasma processing reactors
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

RF electrical measurements in plasma processing reactors

Marcelo B. Pisani Patrick Bernard Verdonck 1958-; International Conference on Microelectronics and Packaging (15. 2000 Manaus)

SBMicro 2000: proceedings Manaus : SBMicro/UA/UFGRS/UNICAMP/USP, 2000

Manaus SBMicro/UA/UFRGS/UNICAMP/USP 2000

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9
Determination of the ion density and electron temperature using a planar electrostatic probe
Determination of the ion density and electron temperature using a planar electrostatic probe
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Determination of the ion density and electron temperature using a planar electrostatic probe

Laura Swart Patrick Bernard Verdonck 1958-; International Symposium on Microelectronics Technology and Devices SBMICRO (20. 2005 Florianópolis)

Claeys, C.; Swart, J. W.; Morimoto, N. I.; Verdonck, P., eds. Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2005 Pennington : The Electrochemical Society, 2005. Proceedings v. 2005-08

Pennington The Electrochemical Society 2005

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10
Contamination caused by reactive ion etching plasmas and subsequent cleaning procedures
Contamination caused by reactive ion etching plasmas and subsequent cleaning procedures
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Contamination caused by reactive ion etching plasmas and subsequent cleaning procedures

Patrick Bernard Verdonck 1958- Ronaldo Domingues Mansano 1964-; Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica (9. 1994 Rio de Janeiro)

Anais Rio de Janeiro : Sbmicro/Ufrj, 1994

Rio de Janeiro Sbmicro/Ufrj 1994

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Deste Autor:

  1. Verdonck, P
  2. Mansano, R
  3. Cirino, G
  4. Maciel, H
  5. Gonçalves Neto, L

Neste Assunto:

  1. Circuitos Integrados
  2. Microeletrônica
  3. Filmes Finos
  4. Óptica
  5. Semicondutores

  • Realização: ABCD-USP USP   Logos de Redes Sociais: Freepik

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