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Material Type: Relatório Técnico
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Aluminium etching with CC14-N2 plasma
Angela Makie Nakazawa Patrick Bernard Verdonck 1958-
São Paulo EPUSP 1997
Item não circula. Consulte sua biblioteca.(Acessar)
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2
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Material Type: Relatório Técnico
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O uso de resistes amplificados quimicamente e de sililação em litografia por feixe de elétrons
Antonio Carlos Seabra 1961- Patrick Bernard Verdonck 1958-
São Paulo EPUSP 1997
Item não circula. Consulte sua biblioteca.(Acessar)
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3
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Material Type: Relatório Técnico
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Deep trench etching in silicon with fluorine containing plasmas
Ronaldo Domingues Mansano 1964- Patrick Bernard Verdonck 1958-; Homero Santiago Maciel
São Paulo EPUSP 1998
Item não circula. Consulte sua biblioteca.(Acessar)
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4
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Material Type: Relatório Técnico
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Influence of plasma etching on Raman spectra of DLC films deposited by magnetron sputtering
Marcos Massi Ronaldo Domingues Mansano 1964-; Homero Santiago Maciel; C Otani; Patrick Bernard Verdonck 1958-; L. N. B. M Nishioka
São Paulo EPUSP 1999
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5
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Material Type: Relatório Técnico
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Comparison between single and double Langmuir probe tecniques for analysis of inductively coupled plasmas
Giuseppe Antonio Cirino Patrick Bernard Verdonck 1958-; Homero Santiago Maciel; R M Castro; Marcos Massi; M B Pisani; Ronaldo Domingues Mansano 1964-
São Paulo EPUSP 1998
Item não circula. Consulte sua biblioteca.(Acessar)
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