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Material Type: Artigo
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Time-resolved x-ray excited optical luminescence in InGaN/GaN multiple quantum well structuresO'Malley, S. M. ; Revesz, P. ; Kazimirov, A. ; Sirenko, A. A.Journal of applied physics, 2011-06, Vol.109 (12), p.124906-124906-5 [Periódico revisado por pares]American Institute of PhysicsTexto completo disponível |
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Material Type: Artigo
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Oxidation and reduction of copper oxide thin filmsJIAN LI ; VIZKELETHY, G ; REVESZ, P ; MAYER, J. W ; TU, K. NJournal of applied physics, 1991-01, Vol.69 (2), p.1020-1029 [Periódico revisado por pares]Woodbury, NY: American Institute of PhysicsTexto completo disponível |
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Material Type: Artigo
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Lateral growth of titanium silicide over a silicon dioxide layerRévész, P. ; Gyimesi, J. ; Pogány, L. ; Petõ, G.Journal of applied physics, 1983-01, Vol.54 (4), p.2114-2115 [Periódico revisado por pares]Texto completo disponível |
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Material Type: Artigo
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Epitaxial regrowth of Ar implanted amorphous Si by laser annealingMatteson, S. ; Révész, P. ; Farkas, Gy ; Gyulai, J. ; Sheng, T. T.Journal of applied physics, 1980-05, Vol.51 (5), p.2625-2629 [Periódico revisado por pares]Texto completo disponível |
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Material Type: Artigo
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High pressure torsion of amorphous Cu 60 Zr 30 Ti 10 alloyHóbor, Sándor ; Révész, Ádám ; Szabó, Péter J. ; Zhilyaev, Alex P. ; Kis, Viktória Kovács ; Lábár, János L. ; Kovács, ZsoltJournal of applied physics, 2008-08, Vol.104 (3), p.033525-033525-8 [Periódico revisado por pares]American Institute of PhysicsTexto completo disponível |
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Material Type: Artigo
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Epitaxial regrowth of Ne- and Kr-implanted amorphous siliconWittmer, M ; Roth, J ; Revesz, P ; Mayer, J WJournal of applied physics, 1978-10, Vol.49 (10), p.5207-5212 [Periódico revisado por pares]Texto completo disponível |
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Material Type: Artigo
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Growth of titanium silicide on ion-implanted siliconRévész, P. ; Gyimesi, J. ; Zsoldos, É.Journal of applied physics, 1983-01, Vol.54 (4), p.1860-1864 [Periódico revisado por pares]Texto completo disponível |
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Material Type: Artigo
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Epitaxial regrowth of Ar-implanted amorphous siliconRevesz, P ; Wittmer, M ; Roth, J ; Mayer, J WJournal of applied physics, 1978-10, Vol.49 (10), p.5199-5206 [Periódico revisado por pares]Texto completo disponível |
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Material Type: Artigo
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Concentration dependence of the dielectric constant in mixed oxides M{sub x}O{sub y}M{sub p}{prime}O{sub q}Devine, R. A. B. ; Revesz, A. G.Journal of applied physics, 2001-07, Vol.90 (1) [Periódico revisado por pares]United States: The American Physical SocietyTexto completo disponível |
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Material Type: Artigo
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High pressure torsion of amorphous Cu60Zr30Ti10 alloyHóbor, Sándor ; Révész, Ádám ; Szabó, Péter J. ; Zhilyaev, Alex P. ; Kis, Viktória Kovács ; Lábár, János L. ; Kovács, ZsoltJournal of applied physics, 2008-08, Vol.104 (3) [Periódico revisado por pares]Texto completo disponível |