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0+-0- Crossings in Electric Fields—A Possibility for Detecting Parity Violation in Helium
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0+-0- Crossings in Electric Fields—A Possibility for Detecting Parity Violation in Helium

Oppen, G. V

Europhysics letters, 1990-01, Vol.11 (1), p.25-30 [Periódico revisado por pares]

IOP Publishing

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2
0.006wt.%Ag-Doped Sb2O3 Nanofilms with Various Thickness: Morphological and optical properties
0.006wt.%Ag-Doped Sb2O3 Nanofilms with Various Thickness: Morphological and optical properties
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0.006wt.%Ag-Doped Sb2O3 Nanofilms with Various Thickness: Morphological and optical properties

Haneen Abass, Khalid ; Haidar Obaid, Noor

Journal of physics. Conference series, 2019-09, Vol.1294 (2), p.22005 [Periódico revisado por pares]

Bristol: IOP Publishing

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3
0.02-wavelengths-thick transmission-type designer wave plate with high efficiency
0.02-wavelengths-thick transmission-type designer wave plate with high efficiency
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0.02-wavelengths-thick transmission-type designer wave plate with high efficiency

Xu, Peng ; Jiang, Wei Xiang ; Cai, Xiao ; Wang, Zheng Xing ; Cui, Tie Jun

Journal of physics. D, Applied physics, 2019-09, Vol.52 (37), p.375105 [Periódico revisado por pares]

IOP Publishing

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0.04 µm Domain Expansion Readout for the Magnetic Amplifiying Magneto Optical System
0.04 µm Domain Expansion Readout for the Magnetic Amplifiying Magneto Optical System
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0.04 µm Domain Expansion Readout for the Magnetic Amplifiying Magneto Optical System

Awano, Hiroyuki ; Sekine, Masaki ; Tani, Manabu ; Kasajima, Nobuko ; Ohta, Norio ; Mitani, Kenichiro ; Takagi, Naoyuki ; Sumi, Satoshi

Japanese Journal of Applied Physics, 2000-02, Vol.39 (2S), p.725 [Periódico revisado por pares]

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5
0.04 mu m domain expansion readout for the magnetic amplifying magneto optical system
0.04 mu m domain expansion readout for the magnetic amplifying magneto optical system
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0.04 mu m domain expansion readout for the magnetic amplifying magneto optical system

Awano, Hiroyuki ; Sekine, Masaki ; Tani, Manabu ; Kasajima, Nobuko ; Ohta, Norio ; Mitani, Kenichiro ; Takagi, Naoyuki ; Sumi, Satoshi

JPN J APPL PHYS PART 1 REGUL PAP SHORT NOTE REV PAP, 2000-01, Vol.39 (2 B), p.725-728 [Periódico revisado por pares]

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6
0.05-3 GHz VNA characterization of soil dielectric properties based on the multiline TRL calibration
0.05-3 GHz VNA characterization of soil dielectric properties based on the multiline TRL calibration
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0.05-3 GHz VNA characterization of soil dielectric properties based on the multiline TRL calibration

Lewandowski, Arkadiusz ; Szyp owska, Agnieszka ; Kafarski, Marcin ; Wilczek, Andrzej ; Barmuta, Pawe ; Skierucha, Wojciech

Measurement science & technology, 2017-02, Vol.28 (2), p.24007 [Periódico revisado por pares]

IOP Publishing

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7
0.05-3 GHz VNA characterization of soil dielectric properties based on the multiline TRL calibration
0.05-3 GHz VNA characterization of soil dielectric properties based on the multiline TRL calibration
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0.05-3 GHz VNA characterization of soil dielectric properties based on the multiline TRL calibration

Lewandowski, Arkadiusz ; Szypłowska, Agnieszka ; Kafarski, Marcin ; Wilczek, Andrzej ; Barmuta, Pawel ; Skierucha, Wojciech

Measurement Science & Technology, 2017-01, Vol.28 (2), p.1-7 [Periódico revisado por pares]

IOP Pub

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8
0.05 µm (3σ) Overlay Accuracy Through-the-lens Alignment in an Excimer Laser Lithography System
0.05 µm (3σ) Overlay Accuracy Through-the-lens Alignment in an Excimer Laser Lithography System
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0.05 µm (3σ) Overlay Accuracy Through-the-lens Alignment in an Excimer Laser Lithography System

Higashiki, Tatsuhiko ; Tojo, Toru ; Takahashi, Yoshihiko ; Tabata, Mitsuo ; Nishizaka, Takeshi ; Kuwabara, Osamu ; Uchida, Norio ; Yoshino, Hisakazu ; Saito, Susumu

Japanese Journal of Applied Physics, 1992-12, Vol.31 (12S), p.4161 [Periódico revisado por pares]

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9
0.05 MU-M (3-SIGMA) OVERLAY ACCURACY THROUGH-THE-LENS ALIGNMENT IN AN EXCIMER LASER LITHOGRAPHY SYSTEM
0.05 MU-M (3-SIGMA) OVERLAY ACCURACY THROUGH-THE-LENS ALIGNMENT IN AN EXCIMER LASER LITHOGRAPHY SYSTEM
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0.05 MU-M (3-SIGMA) OVERLAY ACCURACY THROUGH-THE-LENS ALIGNMENT IN AN EXCIMER LASER LITHOGRAPHY SYSTEM

HIGASHIKI, T ; TOJO, T ; TAKAHASHI, Y ; TABATA, M ; NISHIZAKA, T ; KUWABARA, O ; UCHIDA, N ; YOSHINO, H ; SAITO, S

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS, 1992, Vol.31 (12B), p.4161-4166 [Periódico revisado por pares]

MINATO-KU TOKYO: JAPAN J APPLIED PHYSICS

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0.05 μm (3σ) overlay accuracy through-the-lens alignment in an excimer laser lithography system: MicroProcess
0.05 μm (3σ) overlay accuracy through-the-lens alignment in an excimer laser lithography system: MicroProcess
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0.05 μm (3σ) overlay accuracy through-the-lens alignment in an excimer laser lithography system: MicroProcess

HIGASHIKI, T ; TOJO, T ; TAKAHASHI, Y ; TABATA, M ; NISHIZAKA, T ; KUWABARA, O ; UCHIDA, N ; YOSHINO, H ; SAITO, S

Japanese journal of applied physics, 1992, Vol.31 (12B), p.4161-4166 [Periódico revisado por pares]

Tokyo: Japanese journal of applied physics

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