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Electrochemical quartz crystal microbalance study of lithium insertion into thin films of tungsten trioxide . I. Modeling of the ionic insertion mechanism
Electrochemical quartz crystal microbalance study of lithium insertion into thin films of tungsten trioxide . I. Modeling of the ionic insertion mechanism
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Electrochemical quartz crystal microbalance study of lithium insertion into thin films of tungsten trioxide . I. Modeling of the ionic insertion mechanism

O Bohnke B Vuillemin; C Gabrielli; M Keddam; H Perrot; H Takenouti; Roberto Manuel Torresi

New York v.40, n.17, p.2755-64, 1995 Electrochimica Acta

New York 1995

Localização: IQSC - Inst. Química de São Carlos    (P3053 )(Acessar)

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Electrochemical quartz crystal microbalance study of lithium insertion into thin films of tungsten trioxide . I. Modeling of the ionic insertion mechanism
Electrochemical quartz crystal microbalance study of lithium insertion into thin films of tungsten trioxide . I. Modeling of the ionic insertion mechanism
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Electrochemical quartz crystal microbalance study of lithium insertion into thin films of tungsten trioxide . I. Modeling of the ionic insertion mechanism

O Bohnke B Vuillemin; C Gabrielli; M Keddam; H Perrot; H Takenouti; Roberto Manuel Torresi

New York v.40, n.17, p.2755-64, 1995 Electrochimica Acta

New York 1995

Localização: IQSC - Inst. Química de São Carlos    (P3053 )(Acessar)

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Electrochromic properties of NiO-based thin films prepared by sol-gel and dip coating
Electrochromic properties of NiO-based thin films prepared by sol-gel and dip coating
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Electrochromic properties of NiO-based thin films prepared by sol-gel and dip coating

M Martini Giancarlo Esposito de Souza Brito; Márcia Carvalho de Abreu Fantini; Aldo Felix Craievich; A Gorenstein

Electrochimica Acta Oxford v. 46, n . 13-14, p. 2275-2279, 2001

Oxford 2001

Acesso online

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Electrochromic properties of NiO-based thin films prepared by sol-gel and dip coating
Electrochromic properties of NiO-based thin films prepared by sol-gel and dip coating
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Electrochromic properties of NiO-based thin films prepared by sol-gel and dip coating

M Martini Giancarlo Esposito de Souza Brito; Márcia Carvalho de Abreu Fantini; Aldo Felix Craievich; A Gorenstein

Electrochimica Acta Oxford v. 46, n . 13-14, p. 2275-2279, 2001

Oxford 2001

Acesso online

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Electrooxidation of methanol on Pt microparticles dispersed on 'SnO IND 2' thin films
Electrooxidation of methanol on Pt microparticles dispersed on 'SnO IND 2' thin films
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Electrooxidation of methanol on Pt microparticles dispersed on 'SnO IND 2' thin films

André L. Santos Demetrius Profeti; Paulo Olivi

Electrochimica Acta Oxford v. 50, p. 2615-2621, 2005

Oxford 2005

Localização: FFCLRP - Fac. Fil. Ciên. Let. de R. Preto    (pcd 1453552 )(Acessar)

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Electrooxidation of methanol on Pt microparticles dispersed on 'SnO IND 2' thin films
Electrooxidation of methanol on Pt microparticles dispersed on 'SnO IND 2' thin films
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Electrooxidation of methanol on Pt microparticles dispersed on 'SnO IND 2' thin films

André L. Santos Demetrius Profeti; Paulo Olivi

Electrochimica Acta Oxford v. 50, p. 2615-2621, 2005

Oxford 2005

Localização: FFCLRP - Fac. Fil. Ciên. Let. de R. Preto    (pcd 1453552 )(Acessar)

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Cathodic behavior of co-sputtered Cu/V oxides thin films
Cathodic behavior of co-sputtered Cu/V oxides thin films
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Cathodic behavior of co-sputtered Cu/V oxides thin films

E. A. Souza R Landers; Manfredo Tabacniks; L. P Cardoso; A Gorenstein

Electrochimica Acta Amsterdam: Elsevier, 2006 v. 51, n. 26, p. 5885-5891, 15 de agosto de 2006

Amsterdam 2006

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8
Electrodeposition of magnetic CoPd thin films: Influence of plating condition
Electrodeposition of magnetic CoPd thin films: Influence of plating condition
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Electrodeposition of magnetic CoPd thin films: Influence of plating condition

Fernanda Merie Takata Paulo Teng An Sumodjo

Electrochimica Acta Oxford v. 52 n. 20, p. 6089-6096, 2007

Oxford 2007

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9
Electrodeposition of magnetic CoPd thin films: Influence of plating condition
Electrodeposition of magnetic CoPd thin films: Influence of plating condition
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Electrodeposition of magnetic CoPd thin films: Influence of plating condition

Fernanda Merie Takata Paulo Teng An Sumodjo

Electrochimica Acta Oxford v. 52 n. 20, p. 6089-6096, 2007

Oxford 2007

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Solid-state electrochromic devices with 'Nb IND.2''O IND.5' Mo thin film and gelatin-based electrolyte
Solid-state electrochromic devices with 'Nb IND.2''O IND.5' Mo thin film and gelatin-based electrolyte
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Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Solid-state electrochromic devices with 'Nb IND.2''O IND.5' Mo thin film and gelatin-based electrolyte

César O Avellaneda Diogo F Vieira; Amal Al-Kahlout; Edson R Leite; Agnieszka Pawlicka; Michel Andre Aegerter

Electrochimica Acta Oxford, v. 53, n. 4, p. 1648-1654, 2007

Oxford 2007

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Deste Autor:

  1. Sumodjo, P
  2. Torresi, R
  3. Gorenstein, A
  4. Takenouti, H
  5. Martini, M

Neste Assunto:

  1. Filmes Finos
  2. Eletroquímica
  3. Eletrodeposição
  4. Eletrodo
  5. Físico-Química Orgânica

  • Realização: ABCD-USP USP   Logos de Redes Sociais: Freepik

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