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Geometrically Induced Dose Correction Method for e-Beam Lithography Applications

GALLER, R ; CHOI, K.-H ; GUTSCH, M ; HOHLE, C ; KRUEGER, M ; RAMOS, L. E ; SUELZLE, M ; WEIDENMUELLER, U

Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering, 2010, Vol.7823

Bellingham, Wash: SPIE

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