Rapid thermal annealing and regrowth of thermal donors in silicon
STEIN, H. J ; HAHN, S. K ; SHATAS, S. C
J. Appl. Phys.; (United States), 1986-05, Vol.59 (10), p.3495-3502
[Periódico revisado por pares]
Woodbury, NY: American Institute of Physics
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