On the nature of the interfacial layer in ultra-thin TiN/LaLuO3 gate stacks
Mitrovic, I. Z. ; Hall, S. ; Sedghi, N. ; Simutis, G. ; Dhanak, V. R. ; Bailey, P. ; Noakes, T. C. Q. ; Alexandrou, I. ; Engstrom, O. ; Lopes, J. M. J. ; Schubert, J.
Journal of applied physics, 2012-08, Vol.112 (4), p.044102 [Periódico revisado por pares]Texto completo disponível